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mrhan1993新蟲 (初入文壇)
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[交流]
MoO3靶材濺射制備MoOx薄膜相關(guān)問題
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| 最近在用三氧化鉬靶材變溫濺射制備MoOx薄膜,所通氣體為Ar氣,功率約100W,但遇到一系列問題,本以為所制備得到的MoOx薄膜中x應(yīng)該在2-3之間,經(jīng)xps分析發(fā)現(xiàn)薄膜嚴(yán)重缺氧,存在很多的氧空位,x約為1.5左右,同時三氧化鉬靶材在濺射的時候從原來的淡綠色變黑,接下來想通一點氧氣,提高氧的比例,請問有朋友有做三氧化鉬相關(guān)方面的研究工作的嗎,誠心交流。 |
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