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ok12315木蟲 (職業(yè)作家)
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[求助]
求助電子束蒸鍍法沉積鉬薄膜的相關(guān)問題 已有1人參與
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我在電子束蒸鍍Mo薄膜時,發(fā)現(xiàn)沉積速率非常低,個人認為可能是Mo熔點太高約2600攝氏度,但是蒸鍍過程中速率波動較大,例如,剛開始速率約1埃/秒,但是十分鐘過后速率就幾乎為零了,蒸鍍室內(nèi)靶材亮度也大幅度降低,而且進一步增大燈絲電流無法加快蒸鍍速率,請問這是什么原因呢?求解 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
薄膜材料和器件制備 | graphene2016-2018 |
木蟲 (職業(yè)作家)
木蟲 (著名寫手)
木蟲 (職業(yè)作家)
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已經(jīng)檢查過了,聚焦沒問題,靶材在沉積初期可以被融化,但是也就十分鐘左右就明顯變暗了,我懷疑是被擊穿了,然后電子束直接轟擊hearth 底了,不知道如何解決 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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