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Neios新蟲(chóng) (初入文壇)
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[求助]
催化劑反應(yīng)后的XPS測(cè)試需要Ar+刻蝕嗎？
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在XPS測(cè)試前，雙金屬催化劑有以下遭遇： 1.催化劑還原后再次暴露空氣中，即reduced catalyst（表面可能因此存在氧化膜）； 2.催化劑反應(yīng)后暴露于空氣中,即spent catalyst（在反應(yīng)中表面有積碳生成）。 對(duì)于以上兩種情形，如果想通過(guò)XPS測(cè)試雙金屬在還原后和反應(yīng)后的表面價(jià)態(tài)變化和相對(duì)含量變化，是否需要Ar+刻蝕，如果需要刻蝕多深適宜？ 望諸神不吝賜教！ 發(fā)自小木蟲(chóng)IOS客戶(hù)端 |
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2樓2017-06-14 19:05:52
zhaoguixuan 
禁蟲(chóng) (著名寫(xiě)手)
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3樓2017-06-15 11:14:41
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