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ws4231153新蟲 (小有名氣)
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[求助]
磁控共濺射會(huì)不會(huì)污染靶源的問題 已有1人參與
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本人想研究摻雜對(duì)研究材料的影響,在文獻(xiàn)上看見的都是用的共濺射的方法,但師姐說我們的機(jī)器共濺射的話靶源會(huì)受到污染,就不能同時(shí)讓兩個(gè)靶進(jìn)行濺射,想問各位做過共濺射的大哥,你們是如何處理這個(gè)問題的呢? 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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新蟲 (小有名氣)
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