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反應(yīng)離子刻蝕
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我最近在做反應(yīng)離子刻蝕實驗,發(fā)現(xiàn)100nm5硅片鍍銅怎么都刻蝕不掉,但是表面又呈現(xiàn)黑色,工藝就是鍍膜勻膠曝光顯影刻蝕,60nm結(jié)構(gòu)可以刻蝕出來,100nm怎么都刻蝕不出來,刻蝕參數(shù)是通的氬氣120sccm,偏壓310v,射頻功率106w,刻蝕時間1小時15分鐘,下面兩張圖片分別是刻蝕前后的?涛g機是國產(chǎn)的jsd300rie。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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