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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 化學化工區(qū) » 電化學 » 化學電源 » 關于電容器涂膜制樣的方法
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七米～海岸銀蟲 (小有名氣)
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[求助]
關于電容器涂膜制樣的方法
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最近在做電容器，涂膜總是涂得不好，總是漏鎳（集流體是鎳），我用的是MnO2：乙炔黑：PVDF=7：2：1混合研磨，NMP為溶劑，研磨半小時，然后用鑰匙涂膜，干燥后發(fā)現(xiàn)很多很多地方漏鎳，測得的CV曲線會有雜峰。 求問：大家是怎么混合研磨復合物的？如果漏鎳對最后的測試的容量有什么影響？如果有漏鎳的地方是不是活性物質分得的電壓低，導致最后的比容量特別低？求各位大神指教，不勝感激。 |
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zcg1881472
新蟲 (正式寫手)
2樓2017-12-24 01:03:18
zcg1881472
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- 專業(yè): 電化學
3樓2017-12-24 01:03:39
4樓2017-12-25 11:54:19
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