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分子印跡的洗脫
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本人在做紫杉烷類的分子印跡聚合物,反應條件60℃下自聚合,反應結束檢測剩余反應液中只有少量的模板分子剩余,但是將得到的印跡聚合物進行洗脫后,模板分子洗不掉?請問有哪位大神知道其問題所在,跪求指導! 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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