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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » Teflon干法刻蝕
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[求助]
Teflon干法刻蝕
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| 最近一直在做Teflon的刻蝕，使用了HARRICK PLASMA Cleaner和Alfar Q150等離子體去膠機兩臺進行O2 plasma干法刻蝕，但是發(fā)現都去不掉。不管是光刻膠還是Teflon都很難去掉，延長時間和強度感覺沒太大區(qū)別。跟文獻里面說的打個幾秒就掉了完全不一樣。。。請問是我用的儀器有問題嗎還是什么原因導致的呢？一般光刻膠或者Teflon干法刻蝕要怎么做呢？ |
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