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[交流]
金屬氧化物的雙電層電容與電化學(xué)活性面積計算求助!
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測OER,催化劑為金屬氧化物,請問: 1、測不同掃速下的CV曲線計算雙電層電容時,某一電位下的電流密度應(yīng)該怎么取,是選上面的電流密度、對應(yīng)的上下兩個電流密度之差△j還是△j/2。文獻中這幾種都有提到… 2、在保證不發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)的區(qū)域,電勢范圍是較小的好,還是越大越好? 3、v-j曲線的斜率、雙電層電容、電化學(xué)活性面積的關(guān)系到底應(yīng)該是怎樣的,不同文獻有不同說法,有的說相等,有的說兩倍關(guān)系? 請各位幫幫忙! 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
新蟲 (初入文壇)
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