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點(diǎn)點(diǎn)星稀新蟲 (初入文壇)
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光學(xué)鍍膜材料你知道幾個(gè)？ 已有7人參與
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1.釔（Y） 三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時(shí)折射率約為1.8.用作鋁保護(hù)膜其極受歡迎,特別相對(duì)于800—12000nm區(qū)域高入射角而言,可用作眼鏡保護(hù)膜,且24小時(shí)暴露于濕氣中.一般為顆粒狀和片狀. 2.二氧化鈰（CeO2） 使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā),在200℃的基板上蒸著二氧化鈰,得到一個(gè)約為2.2的折射率,在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化,在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45,在波長短過400nm時(shí)有吸收,傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性,用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般為顆粒狀,還可用一增透膜和濾光片等. 3.氧化鎂(MgO) 必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華,堅(jiān)硬耐久且有良好 的紫外線(UV)穿透性,250nm時(shí)n=1.86, 190nm時(shí)n=2.06. 166nm時(shí)K值為0.1, n=2.65.可用作紫外線薄膜材料.MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過性良好,但膜層被限制在60層以內(nèi)(由于膜應(yīng)力)500nm時(shí)環(huán)境基板上得到n=1.70.由于大氣CO2的干擾,MGO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層,可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2). 4.硫化鋅(ZnS) 折射率為2.35, 400—13000nm的透光范圍,具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性, ZnS在高溫蒸著時(shí)極易升華,這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層,因此需要徹底清爐,并且在最高溫度下烘干,花數(shù)小時(shí)才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線(UV)對(duì)ZNS有較大的影響,由于紫外線在大氣中導(dǎo)致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅(ZNO). 應(yīng)用：分光膜,冷光膜,裝飾膜,濾光片,高反膜,紅外膜. 5.二氧化鈦(TIO2) TIO2由于它的高折射率和相對(duì)堅(jiān)固性,人們喜歡把這種高折射率材料用于可見光和近紅外線區(qū)域,但是它本身又難以得到一個(gè)穩(wěn)定的結(jié)果.TIO2, TI2O3. TIO, TI ,這些原材料氧—鈦原子的模擬比率分別為:2.0, 1.67, 1.5, 1.0, 0. 后發(fā)現(xiàn)比率為1.67的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個(gè)重復(fù)性折射率為2.21的堅(jiān)固的膜層,比率為2的材料第一層產(chǎn)生一個(gè)大約2.06的折射率,后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個(gè)膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無吸收性,幾乎每一個(gè)TIO2蒸著遵循一個(gè)原則:在可使用的光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的吸收性,這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TIO2需要使用IAD助鍍,氧氣輸入口在擋板下面. TI3O5比其它類型的氧化物貴一些,可是很多人認(rèn)為這種材料不穩(wěn)定性的風(fēng)險(xiǎn)要小一些,PULKER等人指出,最后的折射率與無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的,基板溫度高則得到高的折射率.例如,基板板溫度為400℃時(shí)在550納米波長得到的折射率為2.63,可是由于別的原因,高溫蒸著通常是不受歡迎的,而離子助鍍已成為一個(gè)普遍采用的方法其在低溫甚至在室溫時(shí)就可以得到比較高的折射,通常需要提供足夠的氧氣以避免(因?yàn)橛形談t降低透過率),但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值(LDT).TIO2的折射率與真空度和蒸發(fā)速度有很大的關(guān)系,但是經(jīng)過充分預(yù)熔和IAD助鍍可以解決這一難題,所以在可見光和近紅外線光譜中,TIO2很受到人們的歡迎. 在IAD助鍍TIO2時(shí),使用屏蔽柵式離子源蒸發(fā)則需要200EV,而用無屏蔽柵式離子源蒸發(fā)時(shí)則需要333EV或者更少一些,在那里平均能量估計(jì)大約是驅(qū)動(dòng)電壓的60%,如果離子能量超過以上數(shù)值,TIO2將有吸收.而SIO2有電子槍蒸發(fā)可以提供600EV碰撞(離子輻射)能量而沒有什么不良效應(yīng). TIO2/SIO2制程中都使用300EV的驅(qū)動(dòng)電壓,目的是在兩種材料中都使用無柵極離子源,這樣避免每一層都改變驅(qū)動(dòng)電壓,驅(qū)動(dòng)電壓高低的選擇取決于TIO2所允許的范圍,而蒸著速度的高低取決于完全致密且無吸收膜所允許之范圍. TIO2用于防反膜,分光膜,冷光膜,濾光片,高反膜,眼鏡膜,熱反射鏡等,黑色顆粒狀和白色片狀,熔點(diǎn):1175℃ TIO2用于防反膜, 裝飾膜, 濾光片, 高反膜 TI2O3用于防反膜 濾光片 高反膜 眼鏡膜 6.氟化釷（ThF4） 260—12000nm以上的光譜區(qū)域，是一種優(yōu)秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區(qū)N從 1.52降到1.38(1000nm區(qū)域)在短波長趨近于1.6,蒸發(fā)溫度比MGF2低一些,通常使用帶有凹罩的舟皿以免THF4良性顆�；鹦秋w濺出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加堅(jiān)固.該膜在IR光譜區(qū)300NM小水帶幾乎沒有吸收,這意味著有望得到一個(gè)低的光譜移位以及更大的整體堅(jiān)固性,在8000到12000NM完全沒有材料可以替代. 7.二氧化硅(SIO2) 經(jīng)驗(yàn)告訴我們,,氧離子助鍍(IAD)SIO將是SIO2薄膜可再現(xiàn)性問題的一個(gè)解決方法,并且能在生產(chǎn)環(huán)境中以一個(gè)可以接受的高速度蒸著薄膜. SIO2薄膜如果壓力過大,薄膜將有氣孔并且易碎,相反壓力過低薄膜將有吸收并且折射率變大,,需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧氣和氬氣混合充氣,但是這是熱鍍的情況,冷鍍時(shí)這種性況不存在. SIO2用于防反膜,冷光膜,濾光片,絕緣膜,眼鏡膜,紫外膜. 無色顆粒狀,折射率穩(wěn)定,放氣量少,和OS-10等高折射率材料組合制備截止膜,濾光片等. 8.一氧化硅(SIO) 應(yīng)用:電子槍,冷光膜,升華 1.8at1000nm鉭鉬舟裝飾膜 1.6at7000nm 保護(hù)膜 制程特性:棕褐色粉狀或細(xì)塊狀. 熔點(diǎn)較低,可用鉬舟或鈦舟蒸發(fā),但需要加蓋舟因?yàn)榇朔N材料受熱直接升華. 使用電子槍加熱時(shí)不能將電子束直接打在材料上而采用間接加熱法. 制備塑料鏡片時(shí),一般第一層是SIO,可以增加膜的附著力. 8.OH-5(TIO2+ZrO2) 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 550nm 300--80002.1約2400電子槍,增透一般 蒸氣成分為:ZRO,O2,TIO,TIO2 呈褐色塊狀或柱狀 尼康公司開發(fā)之專門加TS--ェート系列抗反射材料,折射率受真空度,蒸發(fā)速率,氧氣壓力的影響很大,蒸鍍時(shí)不加氧或加氧不充分時(shí),制備薄膜會(huì)產(chǎn)生吸收現(xiàn)象,但是我們?cè)趯?shí)際應(yīng)用時(shí)沒有加氧也比較好用. 9.二氧化鋯(ZrO2) ZrO2具有堅(jiān)硬,結(jié)實(shí)及不均勻之特性,該薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收,其材料的純度及為重要,純度不夠薄膜通常缺乏整體致密性,它得益于適當(dāng)使用IAD來增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均勻性.目前純度達(dá)到99.99%基本上解決了以上的問題.SAINTY等人成功地使用ZRO2作為鋁膜和銀膜的保護(hù)膜,該膜層(指ZRO2)是在室溫基板上使用700EV氬離子助鍍而得到的.一般為白色柱狀或塊狀,蒸發(fā)分子為ZRO,O2. 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 550nm 320-70002.05約2500電子槍,增透,加硬膜一般 2.0AT2000眼鏡膜保護(hù)膜 制程特性:白色顆粒,柱狀,或塊狀,粉狀材料使用鎢舟或鉬舟.顆粒狀,粉狀材料排雜氣量較多,柱狀或塊狀較少. 真空度小于2*10-5Torr條件下蒸發(fā)可得到較穩(wěn)定的折射率，真空度大于5*10-5Torr時(shí)蒸發(fā)，薄膜折射率逐漸變小。 蒸鍍時(shí)加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均勻性。 10.氟化鎂（MgF2） MGF2作為1/4波厚抗反射膜普遍使用來作玻璃光學(xué)薄膜，它難以或者相對(duì)難以溶解，而且有大約120NM真實(shí)紫外線到大約7000nm的中部紅外線區(qū)域里透過性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出從至少200NM到6000NM的區(qū)域里，2.75MM厚的單晶體MGF2是透明的,接著波長越長吸收性開始增大,在10000NM透過率降到大約2%,雖然在8000—12000NM區(qū)域作為厚膜具有較大的吸收性,但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護(hù)層. 不使用IAD助鍍,其膜的硬度,耐久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍,MGF2膜層通常被手指擦傷,具有比較高的濕度變化.在真空中大約N=1.32,堆積密度82%,使用300（℃）蒸鍍,其堆積密度將達(dá)到98%,N=1.39它的膜層能通過消除裝置的擦傷測(cè)試并且溫度變化低,在室溫與300（℃）之間,折射率與密度的變化幾乎成正比例的. 在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300（℃）同等的薄膜,但是125—150EV能量蒸鍍可是最適合的.在塑料上使用IAD蒸鍍幾乎強(qiáng)制獲得合理的附著力與硬度.經(jīng)驗(yàn)是MGF2不能與離子碰撞過于劇烈. 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 550nm 2000-70001.38約1100電子槍,增透,加硬膜少,MGF2 1.35AT200鉬鉭鎢舟眼鏡膜(MGF2)2 制程特性:折射率穩(wěn)定,真空度和速率對(duì)其變化影響小 預(yù)熔不充分或蒸發(fā)電流過大易產(chǎn)生飛濺,造成鏡片”木”不良.在打開檔板后蒸發(fā)電流不要隨意加減,易飛濺.基片須加熱到高的張應(yīng)力 白色顆粒狀,常用于抗反射膜,易吸潮.購買時(shí)應(yīng)考慮其純度. 11.三氧化二鋁(Al2O3) 普遍用于中間材料,該材料有很好的堆積密度并且在200—7000NM區(qū)域的透明帶,該制程是否需要加氧氣以試驗(yàn)分析來確定,提高基板溫度可提高其折射率,在鍍膜程式不可理更改情況下,以調(diào)整蒸發(fā)速率和真空度來提高其折射率. 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 550nm 200-70001.632050電子槍,增透,保護(hù)膜一般,AL,O, 眼鏡膜O2,ALO,AL2O,(ALO)2 制程特性:白色顆粒狀或塊狀,結(jié)晶顆粒狀等. 非結(jié)晶狀材料雜氣排放量高,結(jié)晶狀材料相對(duì)較少. 折射率受蒸著真空度和蒸發(fā)速率影響較大,真空不好即速率低則膜折射率變低;真空度好蒸發(fā)速率較快時(shí),膜折射率相對(duì)增大,接近1.62 Al2O3蒸發(fā)時(shí)會(huì)產(chǎn)生少量的AL分子造成膜吸收現(xiàn)象,加入適當(dāng)?shù)腛2時(shí),可避免其吸收產(chǎn)生.但是加氧氣要注意不要影響到它的蒸發(fā)速率否則改變了它的折射率. 12.鍺(Ge) 稀有金屬,無毒無放射性,主要用于半導(dǎo)體工業(yè),塑料工業(yè),紅外光學(xué)器件,航天工業(yè),光纖通訊等.透光范圍2000NM---14000NM,n=4甚至更大,937（℃）時(shí)熔化并且在電子槍中形成一種液體,然后在1400（℃）輕易蒸發(fā).用電子槍蒸發(fā)時(shí)它的密度比整體堆積密度低,而用離子助鍍或者鐳射蒸鍍可以得到接近于松散密度.在鍺基板上與THF4制備幾十層的8000---12000NM帶通濾光片,如果容室溫度太高吸收將有重大變化,在240--280（℃）范圍內(nèi),在從非晶體到晶體轉(zhuǎn)變的過程中GE有一個(gè)臨界點(diǎn). 名稱:鍺化鋅(ZnGe) 疏散的鍺化鋅具有一個(gè)比其相對(duì)較高的折射率,在500NM時(shí)N=2.6,在可見光譜區(qū)以及12000—14000NM區(qū)域具有較少的吸收性并且疏散的鍺化鋅沒有其材質(zhì)那么硬.使用鉭舟將其蒸發(fā)到150攝氏度的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學(xué)濾鏡. 13.氧化鉿(HfO2) 在150攝氏度的基板上有用電子槍蒸著,折射率在2.0左右,用氧離子助鍍可能取和得2.05—2.1穩(wěn)定的折射率,在8000—12000NM區(qū)HFO2用作鋁保護(hù)膜外層好過SIO2 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 550nm 230-700022350電子槍,增透,高反膜少 紫外膜 無色圓盤狀或灰色顆粒狀和片狀. 14.碲化鉛（PbTe） 是一種具有高折射率的IR材料，作為薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在紅外區(qū)N=5.1—5.5，該材料升華,基板板溫度250攝氏度是有益的,健康預(yù)防是必要的,在高達(dá)40000NM時(shí)使用效果很好,別的材料常常用在超過普通的14000NM紅外線邊緣. 15.鈰(Ce)氟化物 Hass等人研究GeF3，他們使用高密度的鎢舟蒸發(fā)發(fā)現(xiàn)在500NM時(shí)N=1.63,并且機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度令人滿意,他們指出在234NM和248NM的吸收最大,而在波長大過300NM時(shí)吸收可以忽略.FUJIWARA用鉬舟蒸發(fā)CEF3和CEO2混合物,得到一個(gè)1.60---2.13的合乎需要的具有合理重復(fù)性的折射率,他指出該材料的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度都令人滿意. 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 300-50001.63約1500電子槍,增透,少 鉬鉭鎢舟眼鏡 16.氟化鈣(CaF2) CaF2是Heavens提出來的，它可以在10-4以上的壓力下蒸發(fā)獲得一個(gè)約為1。23---1。28的折射率。可是他說最終的膜層不那么令人滿意，在室溫下蒸著氟化鈣其堆積密度大約為0.57,這與Ennos給出的疏散折射率1.435相吻合,這說明該材料不耐用并容易隨溫度變化而變化.原有的高拉應(yīng)力隨膜厚增大而降低,膜厚增大導(dǎo)致大量的可見光散射.可以用鎢鉭舟鉬舟蒸發(fā)而且會(huì)升華,在紅外線中其穿透性超過12000nm,它沒有完全的致密性似乎是目前其利用受到限制的原因,隨著IAD蒸著氟化物條件的改善這種材料的使用前景更為廣闊. 17.氟化鋇(BaF2) 與氟化鈣具有相似的物理特性,在室溫下蒸鍍氟化鋇,使用較低的蒸著速度時(shí)材料的堆積密度為0.66,并且密度變化與蒸著速度增大幾乎成正比,在速度為20NM/S堆積密度高達(dá)0.83,它的局限性又是它缺乏完全致密性.透過性在高溫時(shí)移到更長的波長,所以目前它只能用在紅外膜. 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 250-150001.48約1500電子槍,紅外膜少 鉬鉭鎢舟 18.氟化鉛(PbF2) 氟化鉛在UV中可用作高折射率材料,在300nm時(shí)N=1.998,該材料與鉬鉭,鎢舟接觸時(shí)折射率將降低,因此需要用鉑或陶瓷皿.Ennos指出氟化鉛具有相對(duì)較低的應(yīng)力,開始是壓力,隨著膜厚度的增加張力明顯增大,但這與蒸著速度無關(guān). 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 250-170001.75700--1000電子槍,紅外膜少 鉑舟,坩鍋 19.鉻(Cr) 鉻有時(shí)用在分光鏡上并且通常用作”膠質(zhì)層”來增強(qiáng)附著力,膠質(zhì)層可能在5—50NM的范圍內(nèi),但在鋁鏡膜導(dǎo)下面,30NM是增強(qiáng)附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟蒸發(fā)而塊狀宜用電子槍來蒸發(fā),該材料升華,但是表面氧化物可以防止它蒸發(fā)/升華,可以全用鉻電鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質(zhì)層對(duì)金鏡化合物進(jìn)行韌性處理,也可在塑料上使用鉻作為膠質(zhì)層.也可使用一個(gè)螺旋狀的鎢絲蒸發(fā).它應(yīng)該是所有材料中具有最高拉應(yīng)力的材料. 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 1.51300--1400電子槍,吸收膜分光膜導(dǎo)電膜加硬膜 鉑舟,鎢舟 20.名稱:鋁(Al) 不管是裝飾膜還是專業(yè)膜都是普遍用于蒸發(fā)/濺鍍鏡膜,常用鎢絲來蒸發(fā)鋁絲,在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種,在紅外域中不用Cu, Ag, Au.鋁原先有一個(gè)比較高的拉應(yīng)力,在不透明厚度時(shí),該拉應(yīng)力降低到一個(gè)小的壓應(yīng)力,并且蒸著以后拉應(yīng)力進(jìn)一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上. 21.銀(Ag) 如果蒸著速度足夠快并且基板溫度不很高時(shí),銀和鋁一樣具有良好的反射性,這是在高速低溫下大量集結(jié)的結(jié)果,這一集結(jié)同時(shí)導(dǎo)致更大的吸收.銀通常不浸濕鎢絲,但是往往形成具有高表面張力的液滴,它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來蒸發(fā),從而避免液滴下掉.有人先在一個(gè)V型鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲,銀絲可以浸濕鉑絲但沒有浸濕鎢絲. 22.金(Au) 金在紅外線1000nm波長以上是已知材料中具有最高反射性的材料,作為一種貴重金屬,它具有較強(qiáng)的化學(xué)堅(jiān)硬性,由于它的可塑性因而抗擦傷性能低,AU可用鎢或氮化硼舟皿或者電子槍來蒸發(fā)(不能與鉑舟蒸發(fā),它與鉑很快合金).金對(duì)玻璃表面的附著力低,因而通常使用一層鉻作為膠質(zhì)層.也可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善,在不透明性達(dá)到即中止IAD,并且最后的薄膜中不含有氧,摻氧將降低薄膜的反射率. 23.銦---錫氧化物和導(dǎo)電材料 銦—錫氧化物(ITO)和In3O5—SnO2有相對(duì)良好的導(dǎo)電性能和可見光穿性.這樣的薄膜在數(shù)據(jù)顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作擇光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化溫度約1450攝氏度. 24.H1 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 360--70002.12200-2400電子槍,增透,眼鏡膜少 25.H2 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 400-50002.12200電子槍,增透,眼鏡膜少 26.H4 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 360--70002.12200-2400電子槍,增透,眼鏡膜濾光片少 27.H5 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 210--100002.22100電子槍,增透,濾光片少 28.M1 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 300--90001.72200-2400電子槍,增透,偏光膜少 29.M2 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 210--100001.72100電子槍,增透,偏光膜分光膜少 30.M3 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 220--100001.82100電子槍,增透,偏光膜少 31.氧化鉭(Ta2O5) 透光范圍(nm)折射率(N)蒸發(fā)溫度（℃）蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 500nm 400--0002.11900--2200電子槍,增透,干涉濾光片少 500nm 300--70001.48約2000電子槍,增透,眼鏡膜少 歡迎同行補(bǔ)充交流 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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10樓2021-08-23 21:46:41
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2樓2018-09-17 13:38:31
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3樓2019-04-09 13:27:37
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4樓2019-05-26 20:15:39
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