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【團隊優(yōu)惠/誠招代理】2026年光學(xué)設(shè)計、光學(xué)制造與儀器工程國際會議(ICODMIE 2026)
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2026年光學(xué)設(shè)計、光學(xué)制造與儀器工程國際會議(ICODMIE 2026) 2026 International Conference on Optical Design, Optical Manufacturing, and Instrument Engineering(ICODMIE 2026) 開會時間:2026年4月20日(暫定)青島,中國(線上+線下) 一、會議重要信息 會議官網(wǎng):www.confs-online.com/icodmie 截稿時間:以官網(wǎng)為準(zhǔn)(延期投稿者請咨詢會議組江老師) 投稿郵箱:ei_icamt@126.com(投稿主題請注明:ICODMIE 2026+通訊作者姓名+江老師推薦,否則無法確認您的稿件) 審核錄用:投稿后約3個工作日 會議出版:IEEE、SPIE、ACM等權(quán)威出版社 會議收錄:EI Compendex, Scopus, CPCI,Google Scholar, CrossRef, ResearchGate等數(shù)據(jù)庫穩(wěn)定檢索 注:投稿文章均將以會議論文集形式正式出版,出版后收錄有ISSN和ISBN雙刊號。團隊及學(xué)生投稿享有優(yōu)惠,具體請咨詢會議組江老師。若不投稿,亦歡迎報名參與口頭匯報或旁聽。如需了解SSCI/SCI期刊、中文核心期刊或三大網(wǎng)省級期刊等其他發(fā)表資源,也歡迎聯(lián)系會議組老師咨詢。 二、大會介紹 2026年光學(xué)設(shè)計、光學(xué)制造與儀器工程國際會議(ICODMIE 2026)定在中國青島舉行。會議將圍繞“光學(xué)設(shè)計、光學(xué)制造與儀器工程”等核心議題展開深入研討,會議旨在匯聚來自各地的研究人員、工程師和行業(yè)專家,共同探討光學(xué)設(shè)計、光學(xué)制造與儀器工程領(lǐng)域的最新進展與創(chuàng)新。大會將在一個充滿活力和創(chuàng)意的城市舉行,為與會者提供一個獨特的平臺,交流思想、展示尖端研究成果并探索合作機會。 三、征稿主題 (包括但不限于): 主題一:光學(xué)設(shè)計 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計與優(yōu)化 成像光學(xué)設(shè)計(照相、顯微、望遠等) 非成像光學(xué)設(shè)計(照明、聚光等) 自由曲面光學(xué)設(shè)計 衍射光學(xué)元件設(shè)計 微納光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計 變焦/多光譜/超光譜光學(xué)系統(tǒng) 紅外/紫外光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計 激光光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計 空間光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計 光學(xué)設(shè)計軟件與算法 公差分析與像質(zhì)評價 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析 偏振光學(xué)設(shè)計與應(yīng)用 自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計 主題二:光學(xué)制造 光學(xué)元件精密制造技術(shù) 光學(xué)磨削與拋光技術(shù) 單點金剛石車削技術(shù) 光學(xué)玻璃/晶體/陶瓷加工 非球面/自由曲面制造技術(shù) 微納結(jié)構(gòu)光學(xué)制造 光刻技術(shù)與微細加工 光學(xué)薄膜制備技術(shù) 光學(xué)元件注塑成型技術(shù) 光學(xué)模壓與復(fù)制技術(shù) 光學(xué)材料特性與加工適應(yīng)性 光學(xué)元件亞表面損傷控制 大口徑光學(xué)元件制造 光學(xué)元件檢測與補償加工 確定性修形與離子束拋光 光學(xué)制造過程智能化控制 光學(xué)系統(tǒng)裝調(diào)與測試 光學(xué)元件與系統(tǒng)檢測技術(shù) 光學(xué)面形測量與波前傳感 光學(xué)參數(shù)測試與評價 光學(xué)系統(tǒng)環(huán)境適應(yīng)性 光學(xué)儀器熱控與力學(xué)分析 光學(xué)系統(tǒng)集成與測試 光機電一體化技術(shù) 光學(xué)儀器中的精密控制 光學(xué)與人工智能結(jié)合 光學(xué)設(shè)計與制造的全鏈路協(xié)同 計算光學(xué)成像與設(shè)計 增材制造在光學(xué)中的應(yīng)用 光學(xué)系統(tǒng)數(shù)字孿生 光學(xué)制造裝備與工藝裝備 光學(xué)檢測儀器國產(chǎn)化與創(chuàng)新 主題三:儀器工程 光學(xué)儀器設(shè)計與集成 光電測量儀器與系統(tǒng) 光譜儀器設(shè)計與應(yīng)用 干涉測量儀器與技術(shù) 激光測量與定位儀器 成像儀器與系統(tǒng) 光學(xué)顯微鏡與顯微成像 天文光學(xué)儀器與技術(shù) 軍用光學(xué)儀器與瞄準(zhǔn)系統(tǒng) 醫(yī)用光學(xué)儀器與內(nèi)窺鏡 環(huán)境監(jiān)測光學(xué)儀器 工業(yè)檢測光學(xué)儀器 光學(xué)儀器校準(zhǔn)與計量 光學(xué)儀器穩(wěn)定性與可靠性 精密機械與光學(xué)儀器結(jié)構(gòu) 光學(xué)儀器智能化與自動化等 四、投稿流程 1.直接將您的文章或摘要投到我們的會議郵箱,我們收到后會第一時間回復(fù)您。 投稿郵箱:ei_icamt@126.com(投稿主題請注明:ICODMIE 2026+通訊作者姓名+江老師推薦,否則無法確認您的稿件) 2.審稿流程:作者投稿-稿件收到確認(1個工作日)-初審(1-3工作日)-告知結(jié)果(接受/拒稿),越早投稿越早收到文章結(jié)果。 五、投稿說明 1.本會議官方語言為英語,投稿者務(wù)必用英語撰寫論文。如需翻譯服務(wù)請聯(lián)系會議組江老師詳詢。 2.向ICODMIE 2026提交的所有文章將發(fā)送給至少兩名評審員,并根據(jù)原創(chuàng)性、技術(shù)或研究內(nèi)容或深度、正確性、與會議的相關(guān)性、貢獻和可讀性進行評估。 3.論文應(yīng)具有學(xué)術(shù)或?qū)嵱脙r值,未在國內(nèi)外學(xué)術(shù)期刊或會議發(fā)表過。作者可通過CrossCheck,Turnitin或其他查詢系統(tǒng)自費查重,否則由文章重復(fù)率引起的被拒搞將由作者自行承擔(dān)責(zé)任。涉嫌抄襲的論文將不被出版。 4.文章至少6頁。論文模板請至官網(wǎng)下載。學(xué)生作者或多篇投稿有優(yōu)惠。 5.只做報告不發(fā)表論文的作者只需提交摘要。 六、參會方式 1、主講嘉賓:申請主題演講,由組委會審核; 2、口頭演講:申請口頭報告,時間為10分鐘左右;(名額有限,優(yōu)先報名) 3、聽眾參會:不投稿僅參會旁聽; |
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