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winsor270木蟲 (正式寫手)
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[交流]
【交流】分子印記膜的最新研究進展 已有2人參與
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最近一直在思考一個問題，在分子印跡膜的制備過程中通常的做法是選擇好功能性單體和交聯(lián)劑，制備具有識別能力的分子印跡聚合物。印跡分子與功能單體大多通過離子、氫鍵、疏水、范德華力等非共價鍵作用形成復(fù)合物，但制備的分子印跡聚合物的選擇性相對較低。上個世紀(jì)九十年代Arnold將金屬配位作用引入分子印跡技術(shù)中，其作用強度高于氫鍵、范德華力等非共價作用，且本身具有方向性。那么在分子印跡膜的制備過程中，如何表征金屬配位的方向性？調(diào)整聚合物中功能單體的的空間結(jié)構(gòu)呢？希望高分子物理理論研究方面的牛人可以說說自己的看法。 |
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wangke102
木蟲 (著名寫手)
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2樓2010-07-01 09:48:01
fhuangy
銀蟲 (正式寫手)
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- 專業(yè): 功能與智能高分子
3樓2011-03-24 15:48:59
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