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jiaojiayou鐵蟲 (正式寫手)
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【求助】溶劑分子變化是否導(dǎo)致PXRD峰位整體移動
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做了個晶體, (1)沒有焙燒時,溶劑分子為DMF,測得其PXRD. (2)焙燒后并暴露在空氣中,估計吸水了,溶劑分子可能為H2O, 測得得PXRD與 (1)相比整體右移(向高角度移動); (3)焙燒后保護(hù)起來,沒有溶劑分子,測得的PXRD又比(2)整體右移; 排除機子的問題,這種溶劑分子的變化,是否會帶來PXRD的變化? 我覺得(1)(2)(3)相比,晶格參數(shù)應(yīng)該減小或者晶格膨脹減小,從而導(dǎo)致向高角度移動,這樣解釋對嗎? 高手幫忙哦~~~~~ |
鐵蟲 (正式寫手)
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鐵蟲 (正式寫手)
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