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kenshin520木蟲 (著名寫手)
拉風家族族長
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[交流]
【求助】大家談談電子級化學品 已有5人參與
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最近在做一個有關電子級化學品的調(diào)研工作（本人學分析），所以想請大家指點一二，想請教現(xiàn)在電子級化學品都有哪些？國際國內(nèi)的發(fā)展現(xiàn)狀等等？小某不才，想與交流一下 [ Last edited by kenshin520 on 2010-8-12 at 16:23 ] |
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7樓2018-01-16 15:03:32
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kenshin520(金幣+3):謝謝，字體很難認啊 2010-08-13 13:31:48
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電子級化學品乃借助化學品固有的化學特性，主要為電子產(chǎn)品進行微 的化學特性，主要為電子產(chǎn)品進行微影、蝕刻與清洗等動作，應用的領域 影、蝕刻與清洗等動作，應用的領域以印刷電路板、半導體與液晶薄膜顯 以印刷電路板、半導體與液晶薄膜顯示面板為大宗，其中尤以半導體與液 示面板為大宗，其中尤以半導體與液晶薄膜顯示面板對高純度的電子級化 晶薄膜顯示面板對高純度的電子級化學品要求最為嚴格，以避免其中的雜 學品要求最為嚴格，以避免其中的雜質(zhì)干擾產(chǎn)品表現(xiàn)。 質(zhì)干擾產(chǎn)品表現(xiàn)。 依工研院IEK資料， 依工研院IEK資料，2 0 0 4年我國電子級化學品產(chǎn)值達新臺 2 0 0 4年我國電子級化學品產(chǎn)值達新臺幣2 3 , 6 1 6百萬元，2 0 0 5年受到半導體 幣2 3 , 6 1 6百萬元，2 0 0 5年受到半導體LCD用化學品持續(xù)大幅成長之賜，產(chǎn) 與LCD用化學品持續(xù)大幅成長之賜，產(chǎn)值成長率達1 5 %，遠高於所有化學品2 % 值成長率達1 5 %，遠高于所有化學品2 %的年平均成長率。 的年平均成長率。 電子級化學品主要扮演著微影、蝕刻與清洗三大功 主要扮演著微影、蝕刻與清洗三大功 能，以下分別敘述。 【微影】 乃藉由光阻劑對光產(chǎn)生的化學反 乃藉由光阻劑對光產(chǎn)生的化學反應，以便讓所需的影像留存在材料 應，以便讓所需的影像留存在材料上。 上。 可分為正型與負型兩種。 可分為正型與負型兩種。 光阻劑 光阻劑的主要成分為酚醛樹脂，依IEK資料， 的主要成分為酚醛樹脂，依IEK資料，2 0 0 4年全球光阻劑市場產(chǎn)值為9 . 4億美 2 0 0 4年全球光阻劑市場產(chǎn)值為9 . 4億美元，較2 0 0 3年成長了1 9 . 9 %，2 0 0 5年繼 元，較2 0 0 3年成長了1 9 . 9 %，2 0 0 5年繼續(xù)成長了1 0 . 2 %，預估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年 續(xù)成長了1 0 . 2 %，預估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年之間，將維持8 . 2 %的複合成長率。 之間，將維持8 . 2 %的復合成長率。全球主要供應地為日本，主要?S商為東 球主要供應地為日本，主要廠商為東 京應化工業(yè)、JSR、住友化學等，目前 京應化工業(yè)、JSR、住友化學等，目前我國僅永光化學一家生產(chǎn)半導體與液 我國僅永光化學一家生產(chǎn)半導體與液晶薄膜顯示面板用的光阻劑，貢獻國 晶薄膜顯示面板用的光阻劑，貢獻國內(nèi)2%需求，98%仰賴自國外進口。 內(nèi)2%需求，98%仰賴自國外進口。經(jīng)光照射之後，基材上照射區(qū)與 經(jīng)光照射之后，基材上照射區(qū)與非照射區(qū)在屬於?婝|的顯影液中溶解 非照射區(qū)在屬于強堿的顯影液中溶解度會不同，故顯影液可將易溶的部份 度會不同，故顯影液可將易溶的部份溶解，而達到顯影的目的。 溶解，而達到顯影的目的。 當光阻劑 當光阻劑為正型，照射區(qū)會產(chǎn)生化學反應，主 為正型，照射區(qū)會產(chǎn)生化學反應，主鍵斷鍵?K發(fā)生極性變化，能溶解於顯 鍵斷鍵并發(fā)生極性變化，能溶解于顯影液中，而非照射區(qū)則不溶於顯影 影液中，而非照射區(qū)則不溶于顯影液；當光阻劑為負型，照射區(qū)反而不 液；當光阻劑為負型，照射區(qū)反而不 易溶于顯影液，與正型光阻劑正好相反，經(jīng)顯影液作用之後，不被溶解留 反，經(jīng)顯影液作用之后，不被溶解留下的部份便是所需的影像。 下的部份便是所需的影像。 最通用的 最通用的顯影液是氫氧化四基銨溶液(TMAH)。 顯影液是氫氧化四基銨溶液(TMAH)。當光阻劑在照射、顯影之後，必 當光阻劑在照射、顯影之后，必須再以去光阻液予以清除，對TFT - LCD 須再以去光阻液予以清除，對TFT - LCD的製作而言，大型基板的邊緣更易堆 的制作而言，大型基板的邊緣更易堆積、殘留多餘的光阻劑，故需要丙二 積、殘留多余的光阻劑，故需要丙二醇甲醚乙酯(PGMEA )、氫氧化鉀等溶液 醇甲醚乙酯( PGMEA )、氫氧化鉀等溶液負責在上述的程序之後，清除、剝離 負責在上述的程序之后，清除、剝離多餘的光阻劑。 多余的光阻劑。 |
2樓2010-08-13 13:00:19
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kenshin520(金幣+1):謝謝 2010-08-13 13:32:00
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3樓2010-08-13 13:09:01
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4樓2011-11-30 15:40:22
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