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kenshin520木蟲 (著名寫手)
拉風家族族長
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[交流]
【求助】大家談談電子級化學品 已有5人參與
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最近在做一個有關電子級化學品的調研工作(本人學分析),所以想請大家指點一二,想請教現(xiàn)在電子級化學品都有哪些?國際國內的發(fā)展現(xiàn)狀等等?小某不才,想與交流一下 [ Last edited by kenshin520 on 2010-8-12 at 16:23 ] |

銅蟲 (初入文壇)
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電子級化學品乃借助化學品固有的化學特性,主要為電子產品進行微 的化學特性,主要為電子產品進行微影、蝕刻與清洗等動作,應用的領域 影、蝕刻與清洗等動作,應用的領域以印刷電路板、半導體與液晶薄膜顯 以印刷電路板、半導體與液晶薄膜顯示面板為大宗,其中尤以半導體與液 示面板為大宗,其中尤以半導體與液晶薄膜顯示面板對高純度的電子級化 晶薄膜顯示面板對高純度的電子級化學品要求最為嚴格,以避免其中的雜 學品要求最為嚴格,以避免其中的雜質干擾產品表現(xiàn)。 質干擾產品表現(xiàn)。 依工研院IEK資料, 依工研院IEK資料,2 0 0 4年我國電子級化學品產值達新臺 2 0 0 4年我國電子級化學品產值達新臺幣2 3 , 6 1 6百萬元,2 0 0 5年受到半導體 幣2 3 , 6 1 6百萬元,2 0 0 5年受到半導體LCD用化學品持續(xù)大幅成長之賜,產 與LCD用化學品持續(xù)大幅成長之賜,產值成長率達1 5 %,遠高於所有化學品2 % 值成長率達1 5 %,遠高于所有化學品2 %的年平均成長率。 的年平均成長率。 電子級化學品主要扮演著微影、蝕刻與清洗三大功 主要扮演著微影、蝕刻與清洗三大功 能,以下分別敘述。 【微影】 乃藉由光阻劑對光產生的化學反 乃藉由光阻劑對光產生的化學反應,以便讓所需的影像留存在材料 應,以便讓所需的影像留存在材料上。 上。 可分為正型與負型兩種。 可分為正型與負型兩種。 光阻劑 光阻劑的主要成分為酚醛樹脂,依IEK資料, 的主要成分為酚醛樹脂,依IEK資料,2 0 0 4年全球光阻劑市場產值為9 . 4億美 2 0 0 4年全球光阻劑市場產值為9 . 4億美元,較2 0 0 3年成長了1 9 . 9 %,2 0 0 5年繼 元,較2 0 0 3年成長了1 9 . 9 %,2 0 0 5年繼續(xù)成長了1 0 . 2 %,預估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年 續(xù)成長了1 0 . 2 %,預估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年之間,將維持8 . 2 %的複合成長率。 之間,將維持8 . 2 %的復合成長率。全球主要供應地為日本,主要?S商為東 球主要供應地為日本,主要廠商為東 京應化工業(yè)、JSR、住友化學等,目前 京應化工業(yè)、JSR、住友化學等,目前我國僅永光化學一家生產半導體與液 我國僅永光化學一家生產半導體與液晶薄膜顯示面板用的光阻劑,貢獻國 晶薄膜顯示面板用的光阻劑,貢獻國內2%需求,98%仰賴自國外進口。 內2%需求,98%仰賴自國外進口。經(jīng)光照射之後,基材上照射區(qū)與 經(jīng)光照射之后,基材上照射區(qū)與非照射區(qū)在屬於?婝|的顯影液中溶解 非照射區(qū)在屬于強堿的顯影液中溶解度會不同,故顯影液可將易溶的部份 度會不同,故顯影液可將易溶的部份溶解,而達到顯影的目的。 溶解,而達到顯影的目的。 當光阻劑 當光阻劑為正型,照射區(qū)會產生化學反應,主 為正型,照射區(qū)會產生化學反應,主鍵斷鍵?K發(fā)生極性變化,能溶解於顯 鍵斷鍵并發(fā)生極性變化,能溶解于顯影液中,而非照射區(qū)則不溶於顯影 影液中,而非照射區(qū)則不溶于顯影液;當光阻劑為負型,照射區(qū)反而不 液;當光阻劑為負型,照射區(qū)反而不 易溶于顯影液,與正型光阻劑正好相反,經(jīng)顯影液作用之後,不被溶解留 反,經(jīng)顯影液作用之后,不被溶解留下的部份便是所需的影像。 下的部份便是所需的影像。 最通用的 最通用的顯影液是氫氧化四基銨溶液(TMAH)。 顯影液是氫氧化四基銨溶液(TMAH)。當光阻劑在照射、顯影之後,必 當光阻劑在照射、顯影之后,必須再以去光阻液予以清除,對TFT - LCD 須再以去光阻液予以清除,對TFT - LCD的製作而言,大型基板的邊緣更易堆 的制作而言,大型基板的邊緣更易堆積、殘留多餘的光阻劑,故需要丙二 積、殘留多余的光阻劑,故需要丙二醇甲醚乙酯(PGMEA )、氫氧化鉀等溶液 醇甲醚乙酯( PGMEA )、氫氧化鉀等溶液負責在上述的程序之後,清除、剝離 負責在上述的程序之后,清除、剝離多餘的光阻劑。 多余的光阻劑。 |
銅蟲 (初入文壇)
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木蟲 (著名寫手)
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