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nobeyondme木蟲 (正式寫手)
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【討論】EUV光刻機價格暴漲至近億美元（這才是貨真價實的高端裝備） 已有3人參與
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EUV光刻機價格暴漲至近億美元 2010-11-22 作者：EETimes 來源: 半導體國際 我要評論(0) 核心提示：ASML公司的EUV光刻機型共取得了六份訂單，而上公司初期生產的EUV機型（機型代號NXE:3100，為alpha機型的下一代產品,采用LPP：Laser-Produced Plasma光源）都已經被訂購一空，這款機型定于今年年底正式交貨。據(jù)報道，這款機型的售價高達9000萬美元。據(jù)說國外某國進行所謂的自主研發(fā)，連人家2000年以前的pas產品還沒有用明白，連抄都算不上。 多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經預測稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價有可能提升到1.25億美元的水平�！碑敃r幾乎所有的人都認為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種系統(tǒng)用作生產。 ASML NXE:3100 EUV光刻機 2003年，EUV光刻系統(tǒng)當時的積極支持者Intel公司認為EUV光刻設備的目標定價應在2000萬美元較為合適。目前各大半導體廠商普遍采用的是193nm沉浸式光刻系統(tǒng)（光波波長193nm,數(shù)據(jù)孔徑值以ASML公司Twinscan NX1950i為例為1.35），而采用EUV光刻設備（波長13.5nm，數(shù)據(jù)孔徑值以ASML公司ADT EUV Tool和Twinscan NXE3100為例均為0.25）的目的是待193nm沉浸式光刻系統(tǒng)不能滿足產品生產要求時取而代之。  ASML公司的ADT(Alpha demo tool) EUV光刻機 不過，EUV光刻系統(tǒng)的推廣普及日程多次延后，與此相對的是，系統(tǒng)的開發(fā)研制費用則成指數(shù)級增長，由此導致設備的制造成本已經完全失控。舉例而言，ASML公司最早的EUV機型--alpha EUV光刻機（采用DPP：Discharge-Produced Plasma光源）的單價據(jù)報已經達到了6000萬美元的水平，而IMEC和Sematach兩家公司則是這種機型的首批兩家用戶。 盡管如此，EUV系統(tǒng)仍有一線生機。正像以前媒體所報道的那樣，ASML公司的EUV光刻機型共取得了六份訂單，而上公司初期生產的EUV機型（機型代號NXE:3100，為alpha機型的下一代產品,采用LPP：Laser-Produced Plasma光源）都已經被訂購一空，這款機型定于今年年底正式交貨。據(jù)報道，這款機型的售價高達9000萬美元。 另外，據(jù) Barclays Capital市調公司透露，除了初期的NXE:3000機型之外，荷蘭ASML公司下一代EUV光刻機產品NXE:3300也取得了10份訂單。有分析師分析，這款新機型的訂購用戶主要有Hynix，IMEC,Intel,三星,東芝以及臺積電公司這幾家。  [ Last edited by nobeyondme on 2010-11-22 at 08:25 ] |
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