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[交流]
【交流】ＸＰＳ分峰問題求教 已有1人參與
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大家好。 我最近剛開始做XPS分析，有些不懂得地方，想請教各位�，F(xiàn)行謝過了。 我主要做的是SiC的XPS分析。先用等離子進(jìn)行表面氧化，所以表面的成分比較復(fù)雜。 通過戴維林老師指點我用XPS peak軟件進(jìn)行了一些初步的分析，但是對于這個軟件有些不懂得地方。 首先是背景的選擇，有三種選項。 其次是半幅值，這個分峰的時候所有的小峰都應(yīng)該是一樣的嗎？ 然后就是%LG，這個怎么確定呢？我問過別人，有人說這個是由設(shè)備確定的，所以所有的峰都應(yīng)該是一樣的，請問是這樣的嗎？值該怎么確定��？ 我通常都是分峰之后根據(jù)預(yù)想的表面可能存在的成分，查詢數(shù)據(jù)庫，然后對所有的峰進(jìn)行整體的平移。這樣對嗎？有時候會出現(xiàn)一些峰對的上號，有的對不上。我應(yīng)該怎么進(jìn)行校正啊？ 我們學(xué)校沒有老師知道我們做XPS測量，數(shù)據(jù)都是我們自己直接測的。 還望各位多多指教，謝謝了！ 下面是我自己做的分峰，但是我不是很確定其正確性，也請各位前輩指點。 其中，Si-O由于其氧化來源不同，鍵能可能不一樣，這是不是合理�。� |
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@你好
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2樓2022-03-21 22:16:26
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