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【求助】請(qǐng)問(wèn)一下光刻膠是什么東西？成分是什么？
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2樓2011-03-11 13:13:44
3樓2011-03-11 19:03:00
集成電路制作中光刻工藝的必需品
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lixiangde(金幣+1): 感謝回帖交流 2011-03-28 16:57:29
zhao9277(金幣+1): 2011-03-29 15:52:44
zhao9277(金幣+1): 2011-03-31 16:10:46
lixiangde(金幣+1): 感謝回帖交流 2011-03-28 16:57:29
zhao9277(金幣+1): 2011-03-29 15:52:44
zhao9277(金幣+1): 2011-03-31 16:10:46
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光刻工藝的進(jìn)行必須借助光刻膠將印在掩膜上的圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅片表面上。光刻膠指光照后能具有抗蝕能力的高分子化合物，用于在半導(dǎo)體基件表面產(chǎn)生電路的形狀。其配方通常是一個(gè)復(fù)雜的體系，主要包括感光物質(zhì)（PAC）、樹脂和一些其他利于使用的材料如穩(wěn)定劑、阻聚劑、粘度控制劑、染料、增塑劑和化學(xué)增溶劑等。 通常我們把常用的光刻膠可分為正光刻膠和負(fù)光刻膠兩種。①正光刻膠：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。②負(fù)光刻膠：受光照部分產(chǎn)生交鏈反應(yīng)而成為不溶物，非曝光部分被顯影液溶解，獲得的圖形與掩模版圖形互補(bǔ)。正光刻膠具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、針孔密度低和無(wú)毒性等優(yōu)點(diǎn)，適合于高集成度器件的生產(chǎn)。負(fù)光刻膠的附著力強(qiáng)、靈敏度高、顯影條件要求不嚴(yán)，適于低集成度的器件的生產(chǎn)。 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，正型光刻膠的銷售額大概是負(fù)型光刻膠的100倍，這是因?yàn)檎凸饪棠z具有更高的分辨率，可以用于微小精細(xì)的電路，同時(shí)，正型光刻膠與等離子干法刻蝕技術(shù)的相容性也更好一些。 |
4樓2011-03-28 15:28:52
zhao9277(金幣+2): 2011-03-31 16:10:40
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光刻膠（又稱光致抗蝕劑），是指通過(guò)紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、X射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。 根據(jù)曝光前后膠膜溶解性質(zhì)的變化可分為正型光刻膠和負(fù)型光刻膠，曝光后溶解度增大的為正型光刻膠，溶解度減小的為負(fù)型光刻膠。光刻膠主要用于半導(dǎo)體集成電路和分立器件的微細(xì)加工，液晶顯示面板的制作，同時(shí)在LED、封裝、磁頭及精密傳感器等制作過(guò)程中也有著廣泛的應(yīng)用。由于光刻膠具有光化學(xué)敏感性，可利用其進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠涂覆半導(dǎo)體、導(dǎo)體和絕緣體上，經(jīng)曝光、顯影后留下的部分對(duì)底層起保護(hù)作用，然后采用蝕刻劑進(jìn)行蝕刻就可將所需的細(xì)微圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工的襯底上。因此光刻膠是微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性化工材料。 光刻膠是一種聚合可溶解物被涂在襯底表面。 正膠一般由感光劑、高分子化合物（通常用線型酚醛樹脂）、溶劑為主要成分及為了改善膠的某一方面性能所加入的添加劑組成。 |
5樓2011-03-31 08:48:28
6樓2012-01-09 19:03:26
7樓2014-10-06 10:21:18
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