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hmily-nacy666

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[求助] 不銹鋼基體上生長(zhǎng)膜，為什么始終充不進(jìn)去電？

請(qǐng)問(wèn)高手
為什么我用不銹鋼做基底生長(zhǎng)了膜后(比較致密的)，去測(cè)電極充放電，電流始終充不進(jìn)去，電壓時(shí)總是-1.0V？
提高充電電流，才能很慢的沖進(jìn)去但很小電流就很快就放電了，但換了別的集流體如（ITO)就不一樣了。就能很好的充放電。
請(qǐng)問(wèn)這是為什么？
謝謝
是不銹鋼哪里漏電了？
謝謝

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1樓 2011-05-08 22:46:32

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【答案】應(yīng)助回帖

hmily-nacy666(金幣+1): 謝謝您 2011-05-10 09:20:13

引用回帖:

Originally posted by hmily-nacy666 at 2011-05-08 22:46:32:
請(qǐng)問(wèn)高手
為什么我用不銹鋼做基底生長(zhǎng)了膜后(比較致密的)，去測(cè)電極充放電，電流始終充不進(jìn)去，電壓時(shí)總是-1.0V？
提高充電電流，才能很慢的沖進(jìn)去但很小電流就很快就放電了，但換了別的集 ...

你做的什么體系？
1）看你鍍?cè)诓讳P鋼上面的材料是不是電化學(xué)活性的
2）如果不銹鋼有部分暴露在溶液中，會(huì)發(fā)生腐蝕，小電流可能是腐蝕電流；用大電流，膜電化學(xué)過(guò)程站主要反應(yīng)

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2樓2011-05-09 01:30:10

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引用回帖:

Originally posted by flashpoint at 2011-05-09 01:30:10:
你做的什么體系？
1）看你鍍?cè)诓讳P鋼上面的材料是不是電化學(xué)活性的
2）如果不銹鋼有部分暴露在溶液中，會(huì)發(fā)生腐蝕，小電流可能是腐蝕電流；用大電流，膜電化學(xué)過(guò)程站主要反應(yīng)

首先我用的是化學(xué)法鍍膜的，膜層應(yīng)該是有活性的，不然換了集流體就有充放電特性了，但用同樣的方法鍍?cè)诓讳P鋼上，材料的充放電特性始終測(cè)不出來(lái)，一直處在充不進(jìn)去，放電特別厲害的情況。
請(qǐng)問(wèn)高手
有人用金屬做集流體時(shí)，基體在鍍完膜之后，測(cè)電化學(xué)性能時(shí)，還需要做什么處理嗎？
謝謝
PS:
測(cè)電化學(xué)性能時(shí)，只有生長(zhǎng)了膜的不銹鋼才浸泡在溶液中。
謝謝

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3樓2011-05-09 08:08:18

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Originally posted by hmily-nacy666 at 2011-05-09 08:08:18:
首先我用的是化學(xué)法鍍膜的，膜層應(yīng)該是有活性的，不然換了集流體就有充放電特性了，但用同樣的方法鍍?cè)诓讳P鋼上，材料的充放電特性始終測(cè)不出來(lái)，一直處在充不進(jìn)去，放電特別厲害的情況。
請(qǐng)問(wèn)高手
有人用金 ...

如果充不進(jìn)去，卻能放出來(lái)，就可能是不銹鋼有問(wèn)題，用不銹鋼做電極不要鍍材料，做對(duì)比試驗(yàn)，看放電性能是不是一樣，

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4樓2011-05-10 04:55:56

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Originally posted by flashpoint at 2011-05-10 04:55:56:
如果充不進(jìn)去，卻能放出來(lái)，就可能是不銹鋼有問(wèn)題，用不銹鋼做電極不要鍍材料，做對(duì)比試驗(yàn)，看放電性能是不是一樣，

做過(guò)空白（不銹鋼做電極不要鍍材料）的電化學(xué)測(cè)試，CV不一樣，但充放電是一樣的，始終是負(fù)值。

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5樓2011-05-10 09:23:48

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