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[求助]
聚合物PS和PMMA良溶劑和不良溶劑問題
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乳液聚合合成的一個(gè)聚苯乙烯PS核聚甲基丙烯酸甲酯PMMA殼的乳膠球，想找兩種溶劑，一種是只溶解（或溶脹）PMMA，對PS沒有一點(diǎn)影響，另一種是只溶解（或溶脹）PS，對PMMA沒有一點(diǎn)影響. 謝謝大家熱心幫忙，或者告知怎么去查相關(guān)資料 |
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wzslg
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東昌莘(金幣+2): 歡迎交流 2011-10-14 16:35:29
108623(金幣+100): 謝謝熱心幫忙 2011-10-14 23:19:31
東昌莘(金幣+2): 歡迎交流 2011-10-14 16:35:29
108623(金幣+100): 謝謝熱心幫忙 2011-10-14 23:19:31
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在Thurn-Albrecht, T., et al., Adv. Mater. (2000) 12, 787.（Nanoscopic templates from oriented block copolymer films）文章的789頁：It is clear from the results shown that, by a selective removal of the PMMA, an ordered nanoporous material can be produced if the surrounding PS matrix remains intact. FESEM images of the surface of a film that was exposed to 25 J/cm2 deep UV radiation, placed in acetic acid, (a selective solvent for PMMA) for 2 h and then rinsed in deionized water, show an ordered array of circular holes, in keeping with the electron microscopy and small-angle neutron scattering (SANS) results. 所以acetic acid（乙酸）就可以溶解（或溶脹）PMMA，對PS沒有一點(diǎn)影響。 |
3樓2011-10-14 16:04:55
zznjut
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2樓2011-10-14 15:49:56
wzslg
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【答案】應(yīng)助回帖
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108623(金幣+50): 再次感謝 2011-10-14 23:22:40
wgs8136(金幣+3): 2011-10-15 09:16:51
wgs8136: 歡迎交流 2011-10-15 09:16:58
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在Albert, J. N. L. and T. H. Epps (2010). "Self-assembly of block copolymer thin films." Materials Today 13(6): 24-33.中的30頁：In one example, Xuan et al.70 compared ultrathin (< ½ × L0 thickness) lamellar PS-b-PMMA films annealed with acetone (strongly PMMA selective), chloroform (slightly PMMA selective), toluene (slightly PS selective), and carbon disulfide (highly PS selective). 我想這段話，更能解決你的問題吧。在這方面的研究，應(yīng)化所的韓艷春研究員的研究很出色，呵呵 |
4樓2011-10-14 16:20:57
5樓2011-10-14 23:22:22
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