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愛惜花草木蟲 (著名寫手)
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[求助]
問下GaAs半導體的p攙雜和n攙雜是怎么實現的啊?
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新手,最近在研究光伏,對于Si的p攙雜和n攙雜很好理解,即摻入B和P, 我想咨詢下GaAs(以及什么InGaAs之類三元的)在形成PN結的時候它的P區(qū)和N區(qū)是怎么得到的呢? 還有類似什么n++/p++/n+/p+ -GaAs代表什么攙雜類型啊? |
材料化工工藝過程問題、實驗過程問題 |

榮譽版主 (文壇精英)
魚大嬸
![]() |
專家經驗: +1536 |
銀蟲 (小有名氣)
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1、GaAs的P型摻雜一般采用Zn取代Ga;n型摻雜一般采用Si取代Ga,但Si是雙性雜質,也有可能取代As,因此實驗條件的控制至關重要。有時也采用c摻雜。你的生長方法是什么?如果是MOCVD,那么一般用二乙基鋅做P型摻雜劑,硅烷做n型摻雜劑。 2、GaAs(以及什么InGaAs之類三元的)在形成PN結的時候它的P區(qū)和N區(qū)在MOCVD或MBE生長過程中依靠控制有機源或束源爐的流量和生長壓力、溫度、襯底取向等諸多條件可以生長而成。你最好去看一下"化合物半導體”,或“MOCVD”等方面的書籍。 |
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