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295435736

金蟲 (小有名氣)

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專業(yè): 等離子體物理

[求助] 翻譯一句話，中翻英

有文獻(xiàn)指出PECVD沉積薄膜的均勻性與反應(yīng)氣體分配進(jìn)入反應(yīng)室有關(guān)系，故下極板采用“噴淋式”平板電極，功率饋入采用“噴淋式”電極背面中心點(diǎn)饋入方式，下極板距真空腔室底面為110 mm，上極板上表面接地，下表面放置基片，兩極板間距離在一定范圍內(nèi)可調(diào)。

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1樓 2011-10-28 13:41:37

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fjtony163

版主 (文壇精英)

米米

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【答案】應(yīng)助回帖

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愛與雨下(金幣+1): 2011-10-28 19:36:48
295435736(金幣+40, 翻譯EPI+1): 還行，謝謝了 2011-10-28 21:16:20

Some literature points out that the distribution of PECVD deposition membrane has relationship with reacted gas distribution entering reaction room. So the lower plate adopted showerhead plate electrode and power feed used back center point feed on showerhead electrode. Lower plate is 110mm from vacuum chamber bottom and upper surface of upper plate is attached to ground when chip is put on lower surface. The distance between two plates could be adjustable in certain range.

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回復(fù)此樓

2樓2011-10-28 14:00:56

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