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cenwanglai榮譽版主 (知名作家)
老和山猥瑣派九段
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[求助]
[求助完畢]單原子摻雜金屬氧化物，不同位置氧空位形成能不一樣，這是為什么呢？
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某個金屬氧化物AO, 用B取代表面上一個A原子。不同位置形成氧空位所需要的能量是不一樣的。模型如下圖所示，紅色為氧原子，摻雜原子標(biāo)注為dopant.圖中標(biāo)出了形成單氧空位的1~3三個不同位置。假設(shè)氧空位形成能依次為-0.6eV, 0.3eV, 0.8eV. 如何讓解釋這三個位置上氧空位形成能的差異呢？ 解釋氧空位形成能的差異的時候，我覺得可以從兩個角度來說： （1）氧空位處與摻雜點之間的相互作用不同導(dǎo)致氧空位形成能不同； （2）分析PDOS，找出不同氧空位結(jié)構(gòu)的TDOS和PDOS，仔細(xì)對比能量低的態(tài)來。然后說一通雜化之類的dongdong. 但是，氧空位形成能差別就那么一點點，電子占據(jù)態(tài)的差別也就在一個電子的量級上，這在動輒幾百個電子的超胞背景中，被掩蓋得體無完膚。 請問各位蟲子是怎么處理的呢？歡迎提供文獻(xiàn)或者建議！��！ 金屬氧化物表面取代摻雜模型。dopant為取代摻雜原子。標(biāo)注1~3的紅色原子表示三個氧空位形成位置。 [ Last edited by cenwanglai on 2011-12-8 at 09:23 ] |
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