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[求助]
求基金摘要： 批準號/代碼 51135002/E050903
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批準號/代碼 51135002/E050903 項目名 大口徑KDP光學晶體元件逐點可控微納潮解拋光新原理與新技術(shù) 負責人 郭東明 依托單位 大連理工大學 批準經(jīng)費▼ 290 起始時間 201201-201612 所屬基金 重點項目 |
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zhiwen79
木蟲 (正式寫手)
- 基金HEPI: 3
- 應助: 0 (幼兒園)
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- 注冊: 2005-11-28
- 專業(yè): 機械工程
【答案】應助回帖
wwwhit(金幣+10, 基金HEPI+1): xiexie 2011-11-30 20:17:08
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大口徑KDP光學晶體元件逐點可控微納潮解拋光新原理與新技術(shù) 負責人：郭東明 參與人：郭東明, 金洙吉, 盛賢君, 鮑永杰, 徐馳, 李偉思, 李哲, 鮑巖 金額：290萬 申請時間：2011 學科代碼：超精密加工工藝與裝備(E050903) 項目批準號：51135002 申請單位：大連理工大學 研究類型：應用基礎研究 關(guān)鍵詞：KDP晶體；潮解；微納拋光；逐點可控；面形精度 磷酸二氫鉀（KDP）、磷酸二氘鉀（DKDP）軟脆晶體是目前唯一可用于慣性約束核聚變(ICF) 、強激光武器激光倍頻和光電開關(guān)器件的優(yōu)質(zhì)非線性光學材料，但其各向異性、軟脆、易潮解、對溫度變化敏感等特點，以及超光滑、高面形精度和高激光損傷閾值要求，使其成為極難加工材料，特別是制成大口徑光學晶體元件對超光滑無損傷高面形精度的苛刻要求，使其超精密加工面臨重大挑戰(zhàn)。本項目以大口徑KDP晶體為對象，探索無磨料微納潮解拋光新原理和基于超聲霧化微水汽的KDP晶體微納潮解潔凈拋光新方法，揭示拋光介質(zhì)與拋光工具的物理化學-機械協(xié)同作用和超光滑表面形成機理；建立材料微納去除速率數(shù)學模型和逐點可控拋光駐留函數(shù)，研究其逐點可控拋光新技術(shù)；進行大口徑KDP晶體原理樣件加工試驗與激光損傷閾值檢測分析，提出表面光順工藝策略，給出微納潮解拋光工藝規(guī)范。研究成果對于加速我國慣性約束核聚變技術(shù)發(fā)展具有重要的現(xiàn)實意義和學術(shù)價值。 |
2樓2011-11-30 07:14:54
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