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xiaoboy185

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[交流] 關(guān)于鋁和金屬氧化物表面的理論計(jì)算

諸位，最近想做鋁和金屬氧化物interface的結(jié)構(gòu)優(yōu)化，
查了一下文獻(xiàn)，發(fā)現(xiàn)鋁和金屬氧化物interface的理論計(jì)算文獻(xiàn)很少，
幾乎沒(méi)有，請(qǐng)問(wèn)是因?yàn)殇X很容易被氧化，所以這方面的計(jì)算
會(huì)很復(fù)雜嗎？或者是其他原因？

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1樓 2011-12-04 21:09:21

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liliangfang

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★
xiaoboy185(金幣+1):謝謝參與

頂，同求答案

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2樓2011-12-05 08:16:48

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valenhou001

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★ ★
xiaoboy185(金幣+1):謝謝參與
fzx2008(金幣+1): 謝謝指教 2011-12-05 11:00:47

那要先問(wèn)你做這方面的出發(fā)點(diǎn)點(diǎn)是什么？

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3樓2011-12-05 10:03:55

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就是想優(yōu)化個(gè)穩(wěn)定構(gòu)型然后研究下疏運(yùn)性質(zhì)

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4樓2011-12-05 10:58:42

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valenhou001

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franch(金幣+3): 謝謝回帖交流 2011-12-05 19:53:06

那在做輸運(yùn)計(jì)算之前，最關(guān)鍵的要弄清楚的是Al與金屬氧化物的肖特基勢(shì)壘高度。
或者簡(jiǎn)單的估計(jì)一下Al的功函數(shù)與金屬氧化物的價(jià)帶頂對(duì)應(yīng)的電離能之間的差值以及相對(duì)應(yīng)于金屬氧化物的導(dǎo)帶底對(duì)應(yīng)的電子親和勢(shì)的差值。

我想這些參數(shù)才是決定哪些金屬適合做為metal electrode/metal oxide/metal electrode這樣的結(jié)構(gòu)的電極。

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5樓2011-12-05 11:55:14

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其實(shí)我這個(gè)工作是依據(jù)實(shí)驗(yàn)的結(jié)構(gòu)來(lái)進(jìn)行模擬的，并不是預(yù)測(cè)。
只是在做的時(shí)候，突然想到al的還原性質(zhì)很強(qiáng)，這樣一來(lái)在優(yōu)化al和金屬氧化物表面結(jié)構(gòu)的時(shí)候可能會(huì)很難優(yōu)化，請(qǐng)問(wèn)這種可能性是否存在？

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6樓2011-12-05 12:33:07

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★
xiaoboy185(金幣+1):謝謝參與

這個(gè)好，希望有大家共同探討一下

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7樓2011-12-05 16:56:11

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根據(jù)計(jì)算的結(jié)果，al的還原性確實(shí)很強(qiáng)，但是在室溫下，優(yōu)化構(gòu)型也不會(huì)發(fā)生很劇烈的變化，如果在高溫下做MD計(jì)算，那么會(huì)發(fā)現(xiàn)氧化物中的氧原子會(huì)全部進(jìn)入到AL里面，比如AL/Fe2O3體系，當(dāng)然Al的熔點(diǎn)很低，融化后還原性就更強(qiáng)了。

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8樓2011-12-08 09:20:48

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