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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 功能材料 » 功能薄膜 » 半導體薄膜異質結制備要求
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[求助]
半導體薄膜異質結制備要求
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本人剛剛接觸半導體材料的制備，想請教一下在制備兩種半導體薄膜PN結結構時，對于制備條件是否要求很高？比如是否需要超高真空？是否需要納米水平的制備技術，例如ALD原子層沉積等。原因是什么，能夠保證交界處的良好接觸來提高電荷傳遞效率嗎？ 謝謝~~~ |
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nofrunolif(金幣+3): 歡迎交流 2012-01-13 12:21:19
rhflower: 金幣+10, ★★★很有幫助 2012-04-04 21:51:55
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rhflower: 金幣+10, ★★★很有幫助 2012-04-04 21:51:55
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2樓2012-01-12 20:20:54
3樓2012-01-13 09:59:29
yuan999
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4樓2012-01-13 11:11:37
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5樓2012-01-13 14:19:50
6樓2012-01-17 23:33:36
7樓2012-02-14 02:36:10
guangliang1388
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8樓2012-02-14 08:56:51
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9樓2020-05-22 15:51:10
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