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[求助]
鋰電池 循環(huán)伏安測試
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| 循環(huán)伏安測試時(shí)，掃描速率一般都是0.1mV/s, 請高人指點(diǎn)一下掃描速率的快慢對CV曲線中的氧化還原峰的峰高和峰寬有什么影響？ |
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 鋰電-電化學(xué) | 資源 |
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wangjine
至尊木蟲 (職業(yè)作家)
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7樓2012-03-05 17:21:17
壞男孩№亮
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2樓2012-03-03 21:09:23
3樓2012-03-04 08:56:25
【答案】應(yīng)助回帖
★ ★ ★ ★
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
ap-liu(金幣+2): 2012-03-04 11:42:58
seagrove(金幣+2): 應(yīng)助積極！ 2012-03-05 17:23:29
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
ap-liu(金幣+2): 2012-03-04 11:42:58
seagrove(金幣+2): 應(yīng)助積極！ 2012-03-05 17:23:29
| 對于不同的體系，掃描速率對峰寬和峰電流大小的影響是不一樣的。對于表面控制過程，隨掃描速率的增大，峰電流理論上為線性增加，峰寬不變；但實(shí)際上都是準(zhǔn)可逆或不可逆的體系，隨掃速增大，峰寬會增大，高掃速下峰電流逐漸偏離線性。對于擴(kuò)散控制過程，可逆體系的電流與掃速的二分之一次方成正比，峰寬理論上也不隨掃速變化而變化，但實(shí)際上總有未補(bǔ)償?shù)膮⒈入姌O與工作電極間的溶液電阻，隨掃速的增加，峰電流增加，這段電阻引起的電壓降也增加，所以隨掃速的增加，可逆的體系也會出現(xiàn)峰寬增加的現(xiàn)象；至于準(zhǔn)可逆的體系，電流和峰寬的變化和表面控制過程的變化相似；不可逆的體系，峰電流依然與掃速的二分之一次方成正比。 |
4樓2012-03-04 10:54:29
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