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liuxyz2008木蟲 (小有名氣)
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電沉積工藝與電沉積機(jī)理之間有什么相關(guān)聯(lián)系
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做了一個(gè)電沉積金屬的相關(guān)實(shí)驗(yàn),有個(gè)問題請(qǐng)各位知道的蟲友指點(diǎn)指點(diǎn) 建議或者相關(guān)文獻(xiàn)也行,先謝謝各位。 開始用兩電極在一個(gè)金屬基體A上沉積了一種金屬B,在A上可以看到B出現(xiàn),檢測顯示也是B. 后來模仿別人對(duì)B在A上沉積機(jī)理進(jìn)行了研究,用三電極體系,做了循環(huán)伏安和計(jì)時(shí)電流,顯示為可逆或不可逆過程和瞬時(shí)成核或連續(xù)成核。 問題是電沉積工藝與電沉積機(jī)理之間有什么聯(lián)系呢?可逆或不可逆過程和瞬時(shí)成核或連續(xù)成核對(duì)鍍層形貌、電參數(shù)什么的有什么聯(lián)系? |
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木蟲 (正式寫手)
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鐵桿木蟲 (正式寫手)
| 可逆不可逆可以看看還原電流和氧化電流的比值,另外就是還原電勢(shì)和氧化電勢(shì)的電勢(shì)差。瞬時(shí)成核和連續(xù)成核對(duì)鍍層的表面形貌會(huì)有影響。記得好像是瞬時(shí)成核是指瞬間在電極表面的活性點(diǎn)上生成結(jié)晶核,然后晶體會(huì)在這個(gè)上面生長,最后晶粒的顆?赡軙(huì)比較大。連續(xù)成核會(huì)源源不斷的生成結(jié)晶核,因此晶體生長點(diǎn)比較多,在同等電量的情況下晶粒可能會(huì)小。我記得好像是這樣,具體的還得樓主去多看看書籍。 |
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