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圣潔十字軍銀蟲 (初入文壇)
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[求助]
求助旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)圓柱靶材技術(shù)的原理
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” 旋轉(zhuǎn)式濺射裝置是在面對(duì)玻璃底板表面的位置呈陣列狀排列多個(gè)圓筒狀濺射靶而制成的。其優(yōu)點(diǎn)是通過(guò)一邊旋轉(zhuǎn)圓筒狀濺射靶一邊濺射,材料能均勻地從濺射靶表面射出。據(jù)AMAT介紹,旋轉(zhuǎn)式濺射裝置能比采用平板型濺射靶的濺射裝置更高效地使用靶材。平板型濺射靶才使用30~40%就不能均勻成膜了,而旋轉(zhuǎn)式用到89%仍能使用。 圓筒狀濺射靶的中心部分是空的,此處配備有磁石。濺射時(shí),在旋轉(zhuǎn)濺射靶的同時(shí),朝著旋轉(zhuǎn)方向獨(dú)立轉(zhuǎn)動(dòng)磁石,從而改變材料從靶材射出的方向。通過(guò)控制圓筒狀濺射靶的配置方法及磁石的驅(qū)動(dòng),可以獲得均勻的膜。“資料來(lái)自AKT-PiVot 55kV PVD設(shè)備介紹。 以上有兩點(diǎn)我不是很明白:多個(gè)圓筒靶材如何排列;圓筒中的磁石如何改變材料的射出方向。 |
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