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hbc1234木蟲 (小有名氣)
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[求助]
薄膜樣品放置一年多后，PL譜出現(xiàn)416nm與438nm雙峰，請大家分析原因
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上傳圖片為在Si基片上利用磁控濺射生長的La摻雜的HfO薄膜，鍍好后放置了一年多．最近在做PL譜的時候發(fā)現(xiàn)了416nm與438nm的雙峰（Xe燈為激發(fā)源，280nm），請問有誰知道這兩個峰的來源？ 這兩個峰在放置兩年的ZnO薄膜上也出現(xiàn)過，而且該ZnO膜經(jīng)過氨水刻蝕之后，雙峰消失，因此我猜測是長期放置造成的，我只是想知道其具體的來源，是表面缺陷、雜質(zhì)、還是潮解？發(fā)上來就是想看看有沒有人見過這樣的現(xiàn)象 HfO-La-PL [ Last edited by hbc1234 on 2012-5-4 at 23:03 ] |
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