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薄膜技術(shù) 顧培夫 已有2人參與
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薄膜技術(shù) 顧培夫 本書是在浙江大學(xué)“光學(xué)薄膜技術(shù)”講義的基礎(chǔ)上編寫的。闡述了薄膜技術(shù)的重要性和關(guān)鍵所在,薄膜的特性、測(cè)試和制造等。是一本專業(yè)介紹真空和薄膜技術(shù)的書籍。 目錄 第一章 真空設(shè)備第一節(jié) 真空的基本知識(shí) 第二節(jié) 真空的獲得 第三節(jié) 真空的測(cè)量 第四節(jié) 實(shí)用真空系統(tǒng) 第二章 制備技術(shù)第一節(jié) 物理氣相淀積（PVD） 第二節(jié) 化學(xué)氣相淀積（CVD） 第三節(jié) 溶液成膜法 第三章 制備工藝因素第一節(jié) 工藝因素分析 第二節(jié) 工藝因素優(yōu)選 第三節(jié) 制備參數(shù)監(jiān)測(cè) 第四章 薄膜材料第一節(jié) 金屬薄膜 第二節(jié) 介質(zhì)和半導(dǎo)體薄膜 第三節(jié) 有機(jī)薄膜 第四節(jié) 紅外薄膜材料 第五節(jié) 紫外薄膜材料 第六節(jié) 任意折射率的薄膜 第七節(jié) 基板材料 第五章 膜層厚度的均勻性第一節(jié) 膜厚的理論分布 第二節(jié) 實(shí)用蒸發(fā)源的蒸汽發(fā)射特性 第三節(jié) 改善均勻性的措施 第四節(jié) 膜厚均勻性的測(cè)量 第六章 薄膜的厚度監(jiān)控第一節(jié) 概述 第二節(jié) 目視法 第三節(jié) 極值法 第四節(jié) 波長(zhǎng)調(diào)制法 第五節(jié) 任意厚度的監(jiān)控方法和裝置 第六節(jié) 監(jiān)控誤差的計(jì)算機(jī)模擬 第七章 薄膜的結(jié)構(gòu)特性第一節(jié) 薄膜的形成 第二節(jié) 薄膜的微觀結(jié)構(gòu) 第三節(jié) 薄膜的成分 第四節(jié) 薄膜微觀結(jié)構(gòu)和成分對(duì)膜層性質(zhì)的影響 第五節(jié) 改善結(jié)構(gòu)的途徑 第八章 薄膜的光學(xué)性質(zhì)及其測(cè)量第一節(jié) 光譜特性 第二節(jié) 光學(xué)常數(shù) 第九章 薄膜的力學(xué)性質(zhì)及其檢測(cè)第一節(jié) 薄膜的附著力和硬度 第二節(jié) 薄膜的應(yīng)力 附錄一 薄膜材料特性 附錄二 去膜腐蝕液 附錄三 常用物理常數(shù)和單位轉(zhuǎn)換[ Last edited by linjie137 on 2012-7-5 at 19:05 ] |
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2012-07-05 16:42:32, 9.09 M
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