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[求助]
有用UPD電化學(xué)沉積做TiO2/CdS復(fù)合半導(dǎo)體的前輩嗎?緊急求助 已有1人參與
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| 我的課題是做TiO2/CdS的半導(dǎo)體材料,使用UPD電化學(xué)沉積來沉積CdS,現(xiàn)在的困難是配置的沉積CdS溶液,在沉積過程中很快就會有CdS的黃色沉淀析出。而且,沉積電流很小,改變了不同的沉積電位還是沒有解決。我用的是CdCl2+Na2S+EDTA二鈉配制溶液的,選擇恒電位沉積。不知道有做一樣的前輩嗎?急求前輩們解惑。。。 |
stormxuhao感興趣的帖子 |


至尊木蟲 (知名作家)
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首先你要明白電化學(xué)方法在CdS沉積過程中到底起了什么作用。按你給的條件,根本不需要電化學(xué)參與,CdS就能沉淀,盡管你添加了絡(luò)合劑EDTA,因?yàn)镃dS的溶度積很。1.4E-29)。 實(shí)際上,你的實(shí)驗(yàn)是一個(gè)化學(xué)沉淀過程,影響CdS沉淀的因素:離子濃度,溫度,pH。為了控制CdS的沉積速度,粒徑以及隨后的半導(dǎo)體性質(zhì),你需要考慮控制這三個(gè)因素。同時(shí),基板TiO2的性質(zhì)也會影響到CdS半導(dǎo)體性。 總之,首先理解過程原理,然后,你才可能找到控制因素。 |

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欠電位沉積,本來就是一個(gè)反應(yīng)很難控制,而且反應(yīng)的交換電流非常小的電化學(xué)反應(yīng)。 一般來講,CV中都未必能夠測試到這個(gè)反應(yīng)。 建議先做CV,看看是否可以有UPD峰。 之后,再考慮是否可以通過工藝參數(shù)的改良來實(shí)現(xiàn) 若無峰,則要改良鍍液成分和添加劑。不過,一般水溶液中能夠?qū)崿F(xiàn)UPD,我倒是覺得還不如用CVD或PVD這種方法跟容易些,而且薄層更純凈一些。水溶液,難免引入Cl和H等輕質(zhì)元素。 |

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