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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 化學化工區(qū) » 電化學 » 電化基礎 » 請教一個EIS問題
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sunnykm銀蟲 (正式寫手)
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[求助]
請教一個EIS問題
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本人做了一種材料，在鐵氰化鉀的體系中測EIS，發(fā)現(xiàn)未處理之前頻率-相位角圖中只有一個峰，處理之后，出現(xiàn)兩個峰，且位置有移動。如圖所示（峰這個表述很欠專業(yè)，但實在不知道該如何表達，大家見諒） 高頻區(qū)對應著Rct，中頻區(qū)是Warburg阻抗吧，反應出材料的多孔結構？不知道我說的對不對，那峰位置的移動能反應多孔結構的變化么？ 求解，謝謝各位 EIS1.PNG EIS.PNG [ Last edited by sunnykm on 2012-8-29 at 16:14 ] |
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Jackcd12
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9樓2012-08-31 12:12:24
Jackcd12
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【答案】應助回帖
★ ★ ★
感謝參與，應助指數(shù) +1
seagrove: 金幣+3, ECEPI+1, 鼓勵新蟲多多應助交流 2012-08-29 19:31:51
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seagrove: 金幣+3, ECEPI+1, 鼓勵新蟲多多應助交流 2012-08-29 19:31:51
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你還可以用Nyquist圖（Z'-Z'')表示你的處理前后的數(shù)據(jù)，及阻抗譜圖。 高頻端容抗弧反映的是氧化還原組分在電極表面發(fā)生氧化還原反應的難易程度，圓�。ㄔ贜yquist 圖上更容易看）越大，表面電子轉移越難，該過程為控制步驟。 至于你的多孔的問題，那要具體分析。 一般而言，反應物到達電極表面交換電子的過程包括：擴散+電子交換過程。當電極表面被絕緣性物質覆蓋的程度越大，電極表面的電子交換過程很難發(fā)生，Rct很多，它與電極修飾物的微觀結構（包括微孔等）有正相關性，但定量分析的話，那還比較復雜。 |
2樓2012-08-29 18:05:31
sunnykm
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3樓2012-08-29 19:30:51
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4樓2012-08-29 20:45:27
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