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關于Atomic Layer Deposition(原子層沉積技術)的一篇綜述
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原子層沉積技術是一層一層將原子沉積在底物上的技術,它最大的優(yōu)勢是可以在原子級別上控制沉積膜的形成以及生長以及對于深寬比很高的材料比如沸石都有著很好的沉積性。利用它,可以極好的復制材料的三維結構。 這篇綜述介紹了ALD的原理、發(fā)展以及不同類別底物的ALD,個人感覺比較容易讀懂。 未命名.jpg |
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