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xm427新蟲 (初入文壇)
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[求助]
[b][u]對(duì)于半導(dǎo)體材料，如何精確確定導(dǎo)帶底附近電子狀態(tài)密度？[/u][/b]
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本人曾經(jīng)利用MS對(duì)半導(dǎo)體材料的DOS進(jìn)行計(jì)算，目的是確定導(dǎo)帶底附近電子狀態(tài)密度，并對(duì)其精度有較高的要求。但本人量子力學(xué)計(jì)算狀態(tài)密度的理論基礎(chǔ)方面比較菜鳥，所以不知道利用MS進(jìn)行第一性原理計(jì)算得到的半導(dǎo)體材料（特別對(duì)于GaN和InGaN材料）的導(dǎo)帶底的DOS是否精確？有多精確？ 如果有牛人有“如何精確確定導(dǎo)帶底附近電子狀態(tài)密度？”的其他方法，也希望各位牛人盡量提供一些，暢所欲言。 本人只想利用導(dǎo)帶底附近（<1ev）的狀態(tài)密度，只要該部分的狀態(tài)密度精確可靠就可以，沒有必要保證所有狀態(tài)密度都準(zhǔn)確可靠。另外，提供本人得到的GaN的能帶圖和狀態(tài)密度，與方便各位解釋，圖中標(biāo)記出為重點(diǎn)關(guān)注位置。 本人是西安電子科技大學(xué)，化合物半導(dǎo)體材料方面的研究生，本人積分不多，有多少就給多少了，希望各位多多指教！不勝感激�。� GaN DOS.png GaN Band Structure.png |
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xm427
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4樓2012-10-28 00:54:51
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