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[求助]
為什么硅溶膠的二氧化硅顆粒紅外測(cè)出來有甲基亞甲基峰？
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| 本來做用羥基硅油改性硅溶膠的實(shí)驗(yàn)，但是發(fā)現(xiàn)空樣的硅溶膠紅外跟改性后的硅溶膠樣品都有甲基亞甲基峰存在（可能羥基硅油以吸附的形式存在于二氧化硅表面），因?yàn)闆]有其他的特征峰，或者特征峰不明顯，不知道如何敘述了（改性后的二氧化硅熱重失重率還是很大的） 所以求助 |
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zm78313216
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【答案】應(yīng)助回帖
★ ★
2007420906: 金幣+2, 很具有參考價(jià)值！歡迎常來精化版~ 2012-12-04 12:26:52
2007420906: 金幣+2, 很具有參考價(jià)值！歡迎常來精化版~ 2012-12-04 12:26:52
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你好，我也有一樣的情況，但那個(gè)可能不是C=C峰，而是某種形式的水峰。 “this indicated that residual intramolecular waters existed within the silicas”，相關(guān)的文獻(xiàn)是這么解釋的。（原文：Preparation of a Silica/Poly(n-butyl acrylate-co-acrylic adid) Composite Latex and Its Pressure-Sensitive Properties, Journal of Applied Polymer Science,Vol. 113, 3113–3124 (2009)） 下面是水的詳細(xì)特征峰： 水的存在狀態(tài) O-H伸縮振動(dòng) 彎曲振動(dòng) 游離水 3756 1595 吸附水 3435 1630 結(jié)晶水 3200-3250 1670-1685 結(jié)構(gòu)水 3640 1350-1260 所以那個(gè)峰可能就是吸附水的O-H彎曲振動(dòng)，具體我也不太懂，但我理解的就是通過某種化學(xué)結(jié)合而存在于分子內(nèi)部的水（大概是TEOS水解的時(shí)候進(jìn)去的），這種水用一般的烘干操作是除不掉的。希望能夠幫到你！ |
7樓2012-12-04 12:21:56
debiao-yang
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2樓2012-10-23 11:32:44
zm78313216
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3樓2012-10-24 10:45:26
4樓2012-10-24 16:32:46
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