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葵花點(diǎn)穴手h銀蟲 (小有名氣)
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[求助]
電弧離子鍍和cathodic Arc 有什么區(qū)別啊
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| 電弧離子鍍（AIP）與cathodic arc兩種鍍膜方法是一樣的嗎？不是的話有什么區(qū)別呀，網(wǎng)上搜了一下相關(guān)的信息不是很多，跪求幫助，謝謝 |
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aaronlc311
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【答案】應(yīng)助回帖
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ant_512: 金幣+2, 應(yīng)助指數(shù)+1, 感謝！ 2013-01-22 14:12:59
葵花點(diǎn)穴手h: 金幣+5, ★★★很有幫助 2013-01-22 21:13:32
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葵花點(diǎn)穴手h: 金幣+5, ★★★很有幫助 2013-01-22 21:13:32
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Cathodic Arc是一種蒸發(fā)靶材料的方法，優(yōu)點(diǎn)是離子化程度高，靶材利用率較高。產(chǎn)生的macro-particles可以用filter過濾掉，稱為filtered-arc，可以作為PI3&D 還有其它方法的離子源，比如用作Ion Plating的離子源的時(shí)候整個(gè)系統(tǒng)就叫AIP。 AIP是以Cathodic Arc蒸發(fā)靶材做離子源的離子鍍。 Cathodic Arc是離子源，Ion Plating是沉積方法，兩個(gè)東西不是一類不能比較，但是兩個(gè)東西合在一起就是你說的AIP。 http://en.wikipedia.org/wiki/Cathodic_arc_deposition http://en.wikipedia.org/wiki/Ion_plating |
2樓2013-01-22 04:06:59
葵花點(diǎn)穴手h
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3樓2013-01-22 21:17:35
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離子鍍： 靶材的離子化可以是通過蒸發(fā)（如EB或者電�。�，濺射，或者干脆就是氣體的分解（CVD)，沒有一種特定的方法。 這種方法的特點(diǎn)是有高能粒子轟擊工件/涂層表面。這種高能粒子可能是離子，也可能是中性粒子。 電弧鍍： Cathodic arc deposition是利用陰極蒸發(fā)靶材產(chǎn)生高能離子，然后一般工件加有負(fù)偏壓，帶正電的離子可以以更高的能量沉積在工件表面。 同時(shí)Cathodic arc也是一種常見的離子源，用來蒸發(fā)靶材產(chǎn)生離子，然后用在其他的鍍層方法上（PI3&D）。 總體來說，離子鍍離子源種類多，待鍍材料的選擇更為廣泛，而且粒子能量高，沉積的薄膜更加致密。相比較而言，電弧鍍的靶材選擇范圍就較窄。 （以上均為個(gè)人理解，歡迎拍磚） |
4樓2013-01-23 04:56:40
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