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[交流]
硬模板去除過程引起的目標(biāo)產(chǎn)物的損失甚至消失問題
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通過硅基硬模板合成了一種目標(biāo)介孔金屬氧化物,去除模板的過程用HF(NaOH對該氧化物溶解性更大),但是HF對該金屬氧化物存在一定的溶解性,自己調(diào)試過不同的HF濃度,當(dāng)濃度在4wt%時,可有大量的殘留物存在,經(jīng)元素分析里面的硅基分子篩并沒有完全除去,增加到10wt%則導(dǎo)致了目標(biāo)氧化物的完全消失,中間的濃度自己也調(diào)試過不是去除不掉模板就是完全沒有了目標(biāo)產(chǎn)物,想請教一下大家有沒有碰到類似的問題,大家是如何處理的?還有就是通過硬模板法來輔助合成該氧化物這條路通不通啊,是不是實驗思路有問題? 希望大家不吝賜教,小弟當(dāng)不勝感激,多謝,多謝! ![]() [ Last edited by 敬天愛人 on 2013-2-28 at 14:57 ] |
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使用非硅基得不好嗎?這兒有份文獻看看吧~~~~~~~~~~![]() ![]() http://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-WOLF201110012.htm |



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