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jzsunjia金蟲(chóng) (正式寫(xiě)手)
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[求助]
怎么用SRIM 2006畫(huà)下面這張圖
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圖示說(shuō)明： 用相同能量，但不同劑量的入射離子注入至靶材中。 SRIM怎么設(shè)置參數(shù)啊，設(shè)置哪個(gè)參數(shù)��？？？？？ 用SRIM 2006 怎么畫(huà)��？用和其他軟件連用嗎（比如作圖軟件）？ 求高手指教�。�！ Different flunence with same ions energy .jpg |
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jzsunjia: 回帖置頂 2013-09-27 23:02:00
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沒(méi)錯(cuò)，是這樣的，我對(duì)b中的情況做了一下計(jì)算。TRIM的圖像是這樣的。最高值是在7E4，乘上表面計(jì)量，6E16，結(jié)果可不就是4E21左右么。 關(guān)于Hopf的paper，我覺(jué)得可能是有圖像含義的區(qū)別在里邊。曲線上的數(shù)字指的是注入計(jì)量，曲線的含義是C在這個(gè)深度所占據(jù)的原子的比例。但是我不知道他是怎么直接得到這個(gè)比例的。因?yàn)檫@個(gè)很奇怪，如果能量不變的話，射程的分布趨勢(shì)是不變的，那么濃度最大值的深度位置應(yīng)該是近似的。但是在他的paper里，明顯是劑量大的時(shí)候離子射程的范圍就大，這個(gè)很奇怪。 1.png |
9樓2013-03-17 02:32:14
yuxiaoinbuaa
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【答案】應(yīng)助回帖
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我已經(jīng)解決了這問(wèn)題，http://www.gaoyang168.com/bbs/viewthread.php?tid=5553317&page=1#pid1，看帖去吧。 |
13樓2013-03-18 18:20:04
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【答案】應(yīng)助回帖
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
jzsunjia: 金幣+8, ★★★很有幫助, 前輩說(shuō)的我大部分能明白，我再試試哦 2013-03-16 11:14:29
蔣青松: 金幣+1, 鼓勵(lì)交流 2013-03-17 22:08:01
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SRIM中只需要設(shè)置入射能量（必要的話可以設(shè)置入射角度），靶的材料。然后已經(jīng)求出必要的數(shù)據(jù)來(lái)了，1E15，注意后面的單位，ions/cm2，我不知道找的是誰(shuí)的模擬結(jié)果，但是我覺(jué)得，這個(gè)結(jié)果應(yīng)該是，錯(cuò)誤的。因?yàn)閺膯挝簧蟻?lái)看，這個(gè)是很難理解的。因?yàn)闄M坐標(biāo)是一個(gè)單位，但是縱坐標(biāo)是ions/cm2。在一定深度的表面劑量，這是很奇怪的，應(yīng)該是ions/cm3比較正常。如果我沒(méi)記錯(cuò)，SRIM直接算出來(lái)的結(jié)果的單位應(yīng)該是cm2/cm3，這樣的話，乘上一個(gè)表面劑量，單位就變成了ions/cm3，即空間中一定深度的離子濃度。 SRIM計(jì)算的結(jié)果都在SRIM Output文件夾中，建議把里邊的文件倒出來(lái)用Origin作圖。這就意味著，要在Origin中做乘上表面劑量的運(yùn)算�？梢韵螺d新的SRIM2013版，里邊有簡(jiǎn)體中文的說(shuō)明，其中一個(gè)摻雜問(wèn)題的說(shuō)明就有解決這個(gè)問(wèn)題的辦法。 祝好運(yùn)。 |
4樓2013-03-16 00:58:26
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2樓2013-03-15 02:44:07
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3樓2013-03-15 13:36:54
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您能給我一份SRIM2013的簡(jiǎn)體中文說(shuō)明嗎？jiaozuosunjia@163.com 我的軟件是老師給的，在網(wǎng)上好像找不到SRIM2013的下載啊  |
5樓2013-03-16 11:27:32
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7樓2013-03-16 13:41:40
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你說(shuō)的這張圖，我在SRIM中輸出過(guò)，但是和文獻(xiàn)對(duì)比發(fā)現(xiàn)不對(duì)，我帖子中所發(fā)的那張圖是一個(gè)老外的文獻(xiàn)中截取的，他畫(huà)的就是用這個(gè)單位，這篇文獻(xiàn)標(biāo)題為Ion-beam synthesis of 3C-SiC surface layers on silicon（2011，作者T. Hopf et al），如果你下載不到，可以給我發(fā)郵件jiaozuosunjia@163.com. 以下是另外一篇文獻(xiàn)中的SRIM圖形,他用的單位是atom/cm3（文獻(xiàn)Formation and characterization of ion beam assisted nanosystems in silicon，2010，P.R. Poudel et al） 你看他畫(huà)的這張圖和你發(fā)的圖是不是一樣，只是乘了個(gè)表面劑量1E17和6E16嗎？？？？ 那如果是的話，他用的縱坐標(biāo)的量級(jí)怎么變?yōu)?1次方呢？？？ 小生愚鈍，希望原諒哦。 1.jpg 2.jpg |
8樓2013-03-16 20:12:23
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10樓2013-03-17 13:18:55
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