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nkq900120

金蟲 (小有名氣)

應(yīng)助: 0 (幼兒園)
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蟲號: 1721415
注冊: 2012-03-28
專業(yè): 無機材料化學

[求助] 濕法刻蝕硅納米線SiNWs怎樣的配方和時間能使硅線分散，間距增加？

Method 1:
3:1 (v/v) H2SO4/H2O2 at 90℃ for 15 min
4.4 M HF and 0.02 M AgNO3 at 50 °C for 30 min
immersed in concentrated HNO3 for 15 min

Method 2:
8 M HF and 0.04 M AgNO3 at 50 °C for 30 min
1:2 (v/v) HNO3/H2O for 30 min
5~10% HF for 10~15min

諸位前輩怎樣得到不那么致密的硅納米線陣列的呢，急求，嗚嗚~~~

回復(fù)此樓

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【討論】做硅納米管和硅納米線潛力如何？已經(jīng)有25人回復(fù)

1樓 2013-06-09 21:05:20

已閱回復(fù)此樓關(guān)注TA 給TA發(fā)消息送TA紅花 TA的回帖

hitsz_li

鐵蟲 (初入文壇)

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專業(yè): 無機非金屬類光電信息與功

【答案】應(yīng)助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
nkq900120: 金幣+10, ★★★★★最佳答案 2013-09-23 13:31:20

1.濕法刻完納米線后放置1-2天，表面形成氧化層后，再用HF去除，得到的納米線會呈現(xiàn)針狀，不容易團聚成簇；
2.刻完的納米線使用KOH溶液處理，注意反應(yīng)很快，表面沒有氧化層的話只需要幾秒，不過納米線也會變短；

贊一下

回復(fù)此樓

2樓2013-07-23 09:09:22