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請教一下關于純鈦微弧氧化處理后膜層厚度的問題 已有1人參與
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純鈦為基材,以硅酸鈉和KOH為電解液進行微弧氧化實驗,最后得出的膜層厚度很薄,不到10個微米。不知道哪位前輩有好一點的溶液配比。 電源條件很簡陋,只有一個三相調壓電源和整流器,沒有脈沖,頻率不可改,不知道這樣的條件能否把厚度做厚。 因為是新手,所以金幣不多,多多包涵! |
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