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怎么測(cè)量CMP加工中,材料的去除率呢 已有1人參與
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| 有人知道如何方便的測(cè)量,化學(xué)機(jī)械拋光中材料的去除量。在納米,微米量級(jí)。我之前用的是測(cè)重量的方法。但是不太精確 |
金蟲 (正式寫手)
金蟲 (正式寫手)
金蟲 (正式寫手)
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屬于半導(dǎo)體的話,如果拋光機(jī)沒(méi)有在線的終點(diǎn)檢測(cè),可以利用壓臺(tái)階來(lái)測(cè)量,不過(guò)前提是必須有臺(tái)階儀,或者可以利用光學(xué)方法,如白光干涉儀或橢偏儀,不過(guò)就我所知道的,白光干涉儀可以測(cè)量金屬氧化物、氮化物,前期是必須知道被測(cè)材料的折射系數(shù),橢偏的話就更復(fù)雜了。。不知你們那有這些設(shè)備么,或是可以去其他學(xué)院或?qū)W校測(cè),不過(guò)做CMP測(cè)厚度是經(jīng)常的,如果跨校了就不方便了! |
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