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liudong093金蟲(chóng) (小有名氣)
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[求助]
鋁箔表面鍍膜做SEM對(duì)樣品的要求？
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鋁箔表面鍍膜做SEM對(duì)樣品的要求？ 鋁箔很薄，表面鍍光學(xué)膜，制得樣品不平整進(jìn)行SEM測(cè)試，表面，截面，及能譜可以嗎？若不能應(yīng)如何處理？ |
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hwweven
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2樓2013-09-12 21:27:21
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3樓2013-09-13 14:00:54
f2148202
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4樓2013-09-13 20:09:15
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5樓2013-09-29 18:07:55
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【答案】應(yīng)助回帖
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liudong093: 金幣+3 2013-10-02 21:20:52
liudong093: 金幣+3 2013-10-02 21:20:52
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http://www.jeol.cn/?p=2188 對(duì)于非導(dǎo)電性樣品，為使具有導(dǎo)電性，需要在樣品表面包覆一層很薄的金屬膜，稱為鍍膜，一般采用離子濺射、真空蒸發(fā)等方法。 離子濺射分為兩種：在10Pa左右的真空中利用輝光放電濺射金屬靶材的二極濺射和用離子束濺射金屬靶材的離子束濺射，通常使用的是二極濺射，圖46是利用前種方法的離子濺射鍍膜裝置示意圖，由于是在低真空中，被濺射出來(lái)的金屬原子與殘余氣體分子碰撞而四下散射并附著在樣品表面，因此能夠形成厚度比較均勻的薄膜。在離子束濺射裝置中，靶和樣品被置于高真空中，因而可以形成高質(zhì)量的薄膜。 真空蒸發(fā)是在真空中將材料加熱使之蒸發(fā)，在樣品表面形成一層薄的金屬膜。由于是在10-3Pa 左右的高真空進(jìn)行蒸發(fā)，殘余氣體分子數(shù)量少，導(dǎo)致蒸發(fā)的物質(zhì)粒子散射較弱，不能從各個(gè)方向在樣品表面鍍覆蒸發(fā)材料，為了在樣品表面形成均勻的薄膜，需要旋轉(zhuǎn)、傾斜樣品。 為使二次電子產(chǎn)額率高且穩(wěn)定，鍍膜材料使用Au、Au-Pd、Pt、Pt-Pd等貴金屬。高倍率下的觀察使用Au-Pd、Pt或Pt-Pd，根據(jù)不同的目的如元素分析等，有時(shí)也使用C、Al等。在真空中蒸發(fā)Pt和Pt-Pd的難度大，濺射C和Al很困難。 鍍膜較厚的話，會(huì)掩蓋樣品表面的精細(xì)結(jié)構(gòu)，所以薄膜盡量以薄為好，但如果鍍層太薄，形成的薄膜不連續(xù)會(huì)引起荷電積累，因此一般鍍膜厚度在幾nm～10nm左右。 |
6樓2013-10-01 00:56:59
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7樓2016-01-23 09:54:03
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