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鈦合金電解拋光以及殘余應(yīng)力X衍射測(cè)量的問(wèn)題
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鈦合金電解拋光的問(wèn)題 本人用電解拋光逐層去除材料，來(lái)測(cè)量不同深度的殘余應(yīng)力。我用的電解液是高氯酸+丁醇+甲醇，電壓是30v，但存在的問(wèn)題是如果較長(zhǎng)時(shí)間拋光，比如40s以上，拋光后的表面不平，下凹，而且中間部分有不光滑的一小片。拋光后我在測(cè)量殘余應(yīng)力，居然還不如未拋光的表面測(cè)量效果好，兩個(gè)探測(cè)器有一個(gè)沒(méi)有衍射峰。大家有何高見(jiàn)？accesschen@gmail.com MSN:access_chen@hotmail.com QQ:214935482 |
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3樓2007-12-02 23:00:30
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4樓2007-12-03 08:43:08
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