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[求助]
求教PLD制備薄膜方面的問題
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最近在用PLD生長氧化物薄膜，新手遇到很多問題，長的真心糾結(jié)。按照文獻(xiàn)中的條件來生長的，生長了一系列的樣品，生長條件氧壓、溫度、靶間距都一樣，激光能量也基本上一樣，但是長出來的性質(zhì)發(fā)現(xiàn)差別很大，重復(fù)性不好。都不知道該如何調(diào)整條件了。求教大神幫我分析分析原因。 由于多次生長之后激光已經(jīng)把靶材的表面打的不平整了（購買的靶材，已有裂痕，取下來打磨平怕碎掉），現(xiàn)在激光打到靶材上打出來的羽輝有點(diǎn)歪斜，不知道是否對薄膜影響很大。 如何選擇靶基間距，是不是基片和羽輝末端相切最好，和羽輝再靠近一點(diǎn)有什么樣的影響，會變好還是變差。 不知道還有那些需要注意的因素呢，例如激光能量、頻率等該如何選擇？ 有相關(guān)的PLD制備薄膜工藝方面的文獻(xiàn)扔幾篇過來看看。   |
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4樓2013-12-16 10:03:06
phyzlc
鐵桿木蟲 (正式寫手)
- 應(yīng)助: 33 (小學(xué)生)
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- 專業(yè): 凝聚態(tài)物性 II ：電子結(jié)構(gòu)
2樓2013-10-28 08:39:49
看來要多摸索條件。但是我?guī)缀跸嗤瑮l件下生長的薄膜性質(zhì)為什么重復(fù)不出來呢，重復(fù)性差這一點(diǎn)讓我很郁悶。 3樓2013-10-28 09:39:39
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