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chenmeng_413新蟲 (初入文壇)
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光刻工藝 已有2人參與
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請(qǐng)教各位大神，我現(xiàn)在在Si片上做光刻，膠是RZJ—304，具體參數(shù)如下： 勻膠：低500 高4000 前烘：100度 90s 曝光：8s 顯影：90s 后烘：120度 2min 可效果并不怎么理想，不知哪些參數(shù)需要改動(dòng)？  |
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