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su736808421木蟲 (小有名氣)
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中頻反應(yīng)濺射SiO2膜與直流濺射ITO膜的在線聯(lián)鍍
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簡要介紹 硅靶反應(yīng)磁控濺射SiO2薄膜工藝具有沉積速率高、膜層質(zhì)量好、設(shè)備簡單和運(yùn)行成本低等優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)在生產(chǎn)中得到應(yīng)用。成品ITO玻璃是在原片玻璃上鍍制SiO2和ITO兩層膜。ITO透明導(dǎo)電玻璃生產(chǎn)中,普遍應(yīng)用ITO陶瓷靶直流濺射工藝沉積ITO膜,如果SiO2 膜應(yīng)用硅靶反應(yīng)磁控濺射工藝,人們會提出,在ITO透明導(dǎo)電玻璃生產(chǎn)線上,這兩種工藝是否可以在線聯(lián)用以及如何實(shí)現(xiàn)聯(lián)用的問題。本文作者在開發(fā)成功硅靶中頻反應(yīng)磁控濺射SiO2工藝后,通過設(shè)備改造和實(shí)驗(yàn)研究解決了這些問題。在線實(shí)現(xiàn)SiO2和ITO膜聯(lián)鍍,關(guān)鍵是SiO2的制備工藝不是孤立地鍍制SiO2膜,而應(yīng)該把SiO2膜作為ITO玻璃中的一部分,把SiO2工藝作為整個(gè)ITO玻璃工藝的一部分。因此要研究增加SiO2鍍膜工序?qū)TO工藝的影響,研究SiO2膜和ITO膜在同一生產(chǎn)線中連續(xù)鍍膜對ITO玻璃整體性能的影響。 [ Last edited by su736808421 on 2013-12-14 at 17:56 ] |
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2013-12-12 11:58:21, 93.35 K
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2樓2013-12-12 12:56:53
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