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如何用高斯分布來描述表面粗糙度
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在一些模型中，用高斯分布來描述粗糙度，主要涉及兩個(gè)參數(shù)：Δ，表面在垂直方向的平均位移，可用RMS來近似；Λ，Δ的相關(guān)長(zhǎng)度。 對(duì)于Λ，我的理解是這樣的：假如表面由不同高度的方塊組成，在表面上取兩個(gè)點(diǎn)，如果這兩個(gè)點(diǎn)在同一個(gè)方塊上，那么他們的高度是相關(guān)的，否則不相關(guān)。Λ可近似為AFM結(jié)果中兩個(gè)峰的距離。 問題： 1，我看了一些資料，都很零碎，對(duì)上面的模型沒有清晰的圖像。如果哪位大賢剛好知道這個(gè)問題，請(qǐng)幫我解釋一下這個(gè)模型。, 2，“Λ可近似為AFM結(jié)果中兩個(gè)峰的距離”是不是正確呢？ 3，AFM結(jié)果中兩個(gè)峰的距離在結(jié)果中直接給出了嗎？我上一個(gè)測(cè)量結(jié)果，可以用nanoscope analysis分析 謝謝大賢指點(diǎn)，感激不盡。 |
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2013-12-23 23:11:07, 436.66 K
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