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誰能幫忙看一下正文里所做的原理和具體的處理過程是什么？ 已有1人參與
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Before nanocrystal deposition, the wafer has been treated with hexamethyl disilazane (HMDS) at 150°C for30 min. This treatment makes SiO2 surface more hydrophobic and improves the uniformity and adhesion of the nanocrystal film. |
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【答案】應(yīng)助回帖
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三平方: 金幣+8, ★有幫助 2013-12-26 09:01:30
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在進(jìn)行納米晶沉積前，晶片要用六甲基二硅氮烷（HMDS）在150度處理30分鐘。此處理使得SiO2表面變得更加疏水以改善納米晶薄膜的均勻性以及（與SiO2表面之間的）粘附力。具體原理與過程可參考： http://www.docin.com/p-542232866.html |
2樓2013-12-25 23:07:55
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