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循環(huán)伏安測(cè)試DSA電極性能時(shí)候的設(shè)置 已有1人參與
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大家好,我是做電化學(xué)氧化處理水的,所以所只知道應(yīng)用,對(duì)電化學(xué)基礎(chǔ)特別是循環(huán)伏安的應(yīng)用不是很清楚。我現(xiàn)在手里有3個(gè)完全相同的釕鈦電極,但是做出來(lái)的試驗(yàn)結(jié)果相差很遠(yuǎn)(殺菌)。所以我想是不是電極本身活性非常不一樣所以造成這樣的區(qū)別。 我決定對(duì)這三個(gè)電極片做一次循環(huán)伏安測(cè)試,看看大家的活性是否一樣。請(qǐng)問,1,單純比較三個(gè)電極片性能的時(shí)候,我要測(cè)試的電極片(DSA)要進(jìn)行活化嗎,DSA是如何活化的呢,另外活化之前要不要做什么處理,比如拋光打磨? 2,請(qǐng)問我要設(shè)置的掃描電壓和電壓掃描速率應(yīng)該怎么選擇呢,可否麻煩大家給個(gè)常用的值,謝謝了! 3,還有一個(gè)一般性的問題就是,以后要測(cè)試一種物質(zhì)的氧化電位的時(shí)候,我知道,掃描速率的選取可以影響這個(gè)氧化電位(和氧化電流)。那么像這樣的情況,如何確定這種物質(zhì)的氧化電位究竟是多少呢,因?yàn)樗Q與掃描速率? 謝謝大家了,都是寫入門的問題,希望大家不吝賜教! |
木蟲 (正式寫手)
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我來(lái)嘗試回答一下: 1 SA活化可以在稀硫酸溶液里面多掃幾次CV得到穩(wěn)定的曲線就可以,電位選擇在水分解電壓范圍之內(nèi)(OER 1.23V VS RHE HER 0V VS RHE)打磨會(huì)把活性組分抹掉,應(yīng)該不行;2:掃描速率可以結(jié)合文獻(xiàn),看幾個(gè)不同掃速的比如10, 20, 50, 100mV/S; 3:對(duì)于可逆體系,氧化還原峰基本上是不隨掃速變化。 希望能幫到你 |

金蟲 (正式寫手)
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